[发明专利]防反射膜的制造方法及防反射膜有效
申请号: | 201680045143.1 | 申请日: | 2016-07-26 |
公开(公告)号: | CN107923996B | 公开(公告)日: | 2019-12-06 |
发明(设计)人: | 松本彩子;胁阪大树;伊吹俊太郎 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | G02B1/118 | 分类号: | G02B1/118;B05D5/06;B32B3/26;B32B7/022;B32B27/20;G02B1/14 |
代理公司: | 72002 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 周欣<国际申请>=PCT/JP2016/ |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 根据本发明,提供一种防反射膜的制造方法及防反射膜,所述防反射膜的制造方法依次具有:工序(1),在基材上涂布包含固化性化合物(a1)、粒子(a2)及溶剂的组合物,使溶剂挥发,从而设置厚度为掩埋粒子(a2)的厚度的层(a);工序(2),使化合物(a1)的一部分固化;工序(3),通过使化合物(a1)的一部分渗透于基材或者使其挥发而形成凹凸形状;及工序(4),使化合物(a1)固化,所述防反射膜具有基材以及包含粒子及树脂的防反射层,防反射层的平均表面粗糙度Ra为15nm以上,在膜厚方向的剖面中,通过粒子、树脂及空气界面相交的点P的垂直于基材的直线与点P上的树脂和空气界面所呈的曲线的切线所呈的角度θ为5°以上,且积分反射率与镜面反射率之差为0.6%以下。 | ||
搜索关键词: | 反射 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种防反射膜的制造方法,所述方法依次具有如下工序:/n工序1,在基材上涂布包含固化性化合物a1、平均一次粒径为150nm以上且250nm以下的粒子a2及溶剂的组合物,使所述溶剂挥发,从而设置不存在所述粒子a2的部分的厚度成为所述粒子a2的平均一次粒径的0.8倍以上的厚度的层a;/n工序2,使所述层a中的所述固化性化合物a1的一部分固化,从而得到经固化的化合物a1c;/n工序3,使所述层a中的选自由所述固化性化合物a1及所述化合物a1c组成的组中的化合物的一部分通过加热渗透于所述基材或者使其挥发,由此在所述层a的表面形成凹凸形状;及/n工序4,使残留于所述层a中的所述固化性化合物a1固化。/n
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