[发明专利]用于半导体掩模检验的基于多边形的几何分类有效
| 申请号： | 201680045352.6 | 申请日： | 2016-08-10 |
| 公开（公告）号： | CN108351596B | 公开（公告）日： | 2019-12-17 |
| 发明（设计）人： | 徐寅;顾文斐(亚历克斯);石瑞芳 | 申请（专利权）人： | 科磊股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/26;H01L21/033;H01L21/66 |
| 代理公司： | 11287 北京律盟知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 张世俊 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明揭示用于提供特征分类以用于光刻掩模的检验的方法及设备。用于制作掩模的设计数据库包含各自由一组顶点定义的多边形。将彼此邻接的所述多边形中的任一者分组在一起。将任何经分组多边形合拢以便消除每一组经分组多边形的内部边缘以获得与此组经分组多边形的覆盖区域对应的多边形。提供并使用规定用于检测多个特征类别的要求的几何约束来检测所述设计数据库的所述多边形中的多个特征类别。使用所述所检测特征类别来检测所述掩模中的缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 分组 设计数据库 检测 特征类别 掩模 半导体掩模 合拢 顶点定义 覆盖区域 光刻掩模 几何分类 几何约束 内部边缘 特征分类 邻接 检验 制作 自由 | ||
【主权项】：
1.一种用于提供特征分类以用于光刻掩模的检验的方法，所述方法包括：/n提供用于制作掩模的设计数据库，其中所述设计数据库具有多个多边形，其中一组顶点定义每个多边形；/n将彼此邻接的所述多边形中的任一者分组；/n将任何经分组多边形合拢在一起以便消除每一组经分组多边形的内部边缘以获得与此组经分组多边形的覆盖区域对应的多边形；/n提供规定用于检测多个特征类别的要求的几何约束，所述几何约束包括用于不同检验要求的多个几何类别，所述检验要求针对利用所述设计数据库制作的掩模的缺陷检测；/n在对所述设计数据库执行所述合拢之后，基于所述几何约束而检测所述设计数据库的所述多边形中的多个特征类别，其中不同特征类别是针对满足不同几何约束的不同多边形而检测；及/n在利用所述设计数据库制作的掩模的检验中，基于所述设计数据库中的所述所检测特征类别来检测缺陷。/n
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