[发明专利]固体摄像器件、电子设备以及固体摄像器件的制造方法有效

专利信息
申请号: 201680045598.3 申请日: 2016-09-05
公开(公告)号: CN107924929B 公开(公告)日: 2022-10-18
发明(设计)人: 井上晋;寄门雄飞;户田淳 申请(专利权)人: 索尼半导体解决方案公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H01L31/10;H01L31/107;H04N5/369
代理公司: 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 代理人: 瓮芳;陈桂香
地址: 日本神*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本技术涉及:能够防止雪崩光电二极管的光接收灵敏度降低的固体摄像器件;电子设备;以及固体摄像器件的制造方法。这个固体摄像器件设置有:雪崩光电二极管,所述雪崩光电二极管包括第一导电类型的第一区域、第二导电类型的第二区域和雪崩区域,所述第二导电类型与所述第一导电类型不同,所述雪崩区域夹在所述第一区域与所述第二区域之间,且所述第一区域、所述第二区域和所述雪崩区域沿半导体基板的厚度方向延伸;以及膜,所述膜被形成在所述半导体基板的至少一侧上,且所述膜包括金属氧化物膜、金属氮化物膜、或金属氧化物膜和金属氮化物膜的混合晶体系膜。例如,本技术可以被应用到CMOS图像传感器。
搜索关键词: 固体 摄像 器件 电子设备 以及 制造 方法
【主权项】:
一种固体摄像器件,其包括:雪崩光电二极管,所述雪崩光电二极管具有第一导电类型的第一区域、第二导电类型的第二区域和雪崩区域,所述第二导电类型与所述第一导电类型不同,所述雪崩区域夹在所述第一区域与所述第二区域之间,且所述第一区域、所述第二区域和所述雪崩区域沿半导体基板的厚度方向延伸;以及膜,所述膜被形成在所述半导体基板的至少一侧上,且所述膜包括金属氧化物膜、金属氮化物膜、或金属氧化物膜和金属氮化物膜的混合晶体系膜。
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