[发明专利]安全装置及其制造方法

摘要

公开了一种制造用于安全装置的图像元件阵列的方法。该方法包括(a)提供包括衬底的金属化的衬底卷材，衬底在衬底的第一表面上具有第一金属层，第一金属层在第一蚀刻剂物质中可溶；(b)将第一光敏抗蚀剂层施加到第一金属层；(c)通过沿着运送路径传送衬底卷材、经由图案化的掩膜将第一光敏抗蚀剂层暴露至一波长的辐射，抗蚀剂层对该辐射响应，且在暴露期间，以与衬底卷材大体上相同的速度、沿着运送路径的至少一部分移动位于衬底卷材旁边的图案化的掩膜，使得掩膜和衬底卷材之间大体上没有相对移动，其中图案化的掩膜包括对辐射是大体上不透明的第一图案元件和对辐射是大体上透明的第二图案元件，其中当第一光敏抗蚀剂层的暴露的第二图案元件反应时，导致被第二蚀刻剂物质溶解的可溶性增加，且未暴露的第一图案元件保持被第二蚀刻剂物质相对不可溶；以及(d)将第一蚀刻剂物质和第二蚀刻剂物质施加到衬底卷材，其中当第一抗蚀剂层的第二图案元件和第一金属层的第二图案元件都被溶解时，第一金属层的剩余的第一图案元件形成图像元件阵列。

主权项

一种制造用于安全装置的图像元件阵列的方法，包括：(a)提供一个金属化的衬底卷材，所述金属化的衬底卷材包括一个衬底，所述衬底在所述衬底的第一表面上具有第一金属层，所述第一金属层在第一蚀刻剂物质中可溶；(b)将第一光敏抗蚀剂层施加到所述第一金属层；(c)通过沿着一个运送路径传送所述衬底卷材来使所述第一光敏抗蚀剂层暴露至一个波长的辐射，所述抗蚀剂层通过一个图案化的掩膜对该波长的辐射响应，且在暴露期间，以与所述衬底卷材大体上相同的速度、沿着所述运送路径的至少一部分移动位于所述衬底卷材旁边的图案化的掩膜，使得在所述掩膜和所述衬底卷材之间大体上没有相对移动，其中所述图案化的掩膜包括第一图案元件和第二图案元件，在所述第一图案元件中，所述掩膜对所述辐射是大体上不透明的，在所述第二图案元件中，所述掩膜对所述辐射是大体上透明的，其中所述第一光敏抗蚀剂层的暴露的第二图案元件反应时，导致被第二蚀刻剂物质溶解的可溶性增加，且未暴露的第一图案元件保持被所述第二蚀刻剂物质相对不可溶；以及(d)将所述第一蚀刻剂物质和所述第二蚀刻剂物质施加到所述衬底卷材，其中所述第一抗蚀剂层的第二图案元件和所述第一金属层的第二图案元件都被溶解时，所述第一金属层的剩余的第一图案元件形成一个图像元件阵列。