[发明专利]具有射束偏转元件的光学构件、其制造方法及适合于光学构件的射束偏转元件有效
申请号: | 201680047134.6 | 申请日: | 2016-08-08 |
公开(公告)号: | CN108027482B | 公开(公告)日: | 2021-09-28 |
发明(设计)人: | R·乌贝尔茨;M·埃斯林格尔 | 申请(专利权)人: | 德国多元光子光学有限公司 |
主分类号: | G02B6/42 | 分类号: | G02B6/42 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 郭毅 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明之光学构件具有具有衬底表面(1)的衬底、布置在衬底表面上的辐射输出元件(2)和/或布置在衬底表面上的辐射输入元件(2)、以及布置在衬底表面(1)上的辐射输出元件或辐射输入元件(2)上且在三个空间方向上的尺寸都小于1mm的射束偏转元件(3),其作用是将辐射输出元件(2)输出的基本上垂直于衬底表面(1)的电磁辐射偏转,并且形成比离开辐射输出元件的射束与衬底表面形成的出射角小或甚至是负角度的射束,或是平行于衬底表面的射束,或是将以与衬底表面夹有一确定角度射入射束偏转元件(3)的电磁辐射聚焦并且偏转射入辐射输入元件,其中,射束偏转元件(3)具有入射面及出射面,以及至少两个影响穿透射束偏转元件之射束的路线的面,其中,面引起将至少一部分入射辐射偏转,另面引起变化所述射束发散度和/或所述射束形状,其中,射束偏转元件的至少入射面及出射面是平坦的,其特征在于,这些平坦的面至少部分地直接处于所述辐射输出元件或辐射输入元件的出射面或入射面上。此外,本发明还包括一种制造所述光学构件的方法及适合于所述光学构件的射束偏转元件。 | ||
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【主权项】:
1.一种光学构件,其包括:具有衬底表面(1)的衬底,处于所述衬底表面上的辐射输出元件(2)和/或处于所述衬底表面上的辐射输入元件(2),以及射束偏转元件(3),其具有在所有三个空间方向上小于1mm的尺寸,所述射束偏转元件布置在所述衬底表面(1)上的辐射输出元件或辐射输入元件(2)上并且如此构型,使得其使基本上垂直于所述衬底表面(1)从所述辐射输出元件(2)出射的电磁辐射偏转并且在此形成如下射束:所述射束相对于离开所述辐射输出元件的射束与所述衬底表面形成的出射角具有更小的角度或甚至负角度或者平行于衬底表面取向;或者使得其使以相对于所述衬底表面的确定角度入射到所述射束偏转元件(3)中的电磁辐射聚焦并且偏转到所述辐射输入元件中,其中,所述射束偏转元件(3)具有用于入射辐射的入射面以及用于所述辐射的出射面,并且具有影响穿透所述元件的辐射的路线的至少两个面,所述至少两个面中的一个引起入射辐射的至少一部分的偏转,所述至少两个面中的另一个引起射束发散度和/或射束形状发生变化,其中,所述射束偏转元件的入射面和出射面中的至少一个平坦地构造,其特征在于,所述平坦的面至少部分地直接处于所述辐射输出元件的或所述辐射输入元件的出射面或入射面上。
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