[发明专利]经由激光能量调制来稳定液滴-等离子体相互作用的系统和方法有效
申请号: | 201680047342.6 | 申请日: | 2016-08-10 |
公开(公告)号: | CN108029186B | 公开(公告)日: | 2021-12-24 |
发明(设计)人: | D·里格斯;R·拉法克 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | H05G2/00 | 分类号: | H05G2/00;H05H1/42 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 王茂华;吕世磊 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 在激光产生等离子体(LPP)极紫外(EUV)系统中,通过激光脉冲照射液滴来在室中产生等离子体。这会生成使得等离子体不稳定的力,并且使得随后液滴随着其接近等离子体而改变其飞行轨迹和速度。可以从所生成的EUV能量的量的振荡检测该不稳定性。为了通过稳定等离子体和液滴的行进来减少振荡,使用比例‑积分(PI)控制器算法来基于室中生成的EUV能量修改随后激光脉冲的能量。通过修改随后激光脉冲的能量,等离子体稳定,这减小了对液滴飞行的影响并稳定了所生成的EUV能量的量,从而允许等离子体室操作更长的时间间隔并且降低由激光源维持的储备功率的量。 | ||
搜索关键词: | 经由 激光 能量 调制 稳定 等离子体 相互作用 系统 方法 | ||
【主权项】:
1.一种方法,包括:使用极紫外(EUV)能量检测器来测量由第一激光脉冲生成的EUV能量的量,所述第一激光脉冲撞击激光产生等离子体(LPP)EUV系统的等离子体室中的第一液滴;基于所测量的、由撞击所述等离子体室中的所述第一液滴的所述第一激光脉冲生成的EUV能量的量,使用EUV控制器来计算第一修改的激光脉冲能量;通过所述EUV控制器,指示所述激光源递送具有所计算的第一修改的能量的第二激光脉冲,由此改变所述等离子体室中的第二液滴的飞行;使用所述EUV能量检测器,测量由所述第二激光脉冲生成的EUV能量的量,所述第二激光脉冲撞击所述等离子体室中的所述第二液滴;基于所测量的、由撞击所述等离子体室中的所述第二液滴的所述第二激光脉冲生成的EUV能量的量,使用所述EUV控制器计算第二修改的激光脉冲能量;以及通过所述EUV控制器,指示所述激光源递送具有所计算的第二修改的能量的第三激光脉冲,由此改变所述等离子体室中的第三液滴的飞行。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司,未经ASML荷兰有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201680047342.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。