[发明专利]用于制造液晶显示的光刻胶剥离剂组合物

摘要

本发明涉及一种用于LCD制造的光刻胶剥离剂组合物,以及一种能够用于制造一种TFT‑LCD的所有过程的集成光刻胶剥离剂组合物。更具体地，本发明涉及一种水性光刻胶剥离剂组合物，其能够应用于所有过渡金属、电位金属和氧化物半导体电线中。所述的水性光刻胶剥离剂组合物包括(a)一种电位金属和金属氧化物缓蚀剂、(b)一种过渡金属缓蚀剂、(c)一种伯烷醇胺、(d)一种环醇、(e)水、(f)一种非质子极性有机溶剂、和(g)一种质子极性有机溶剂，其中所述的光刻胶剥离剂组合物在半导体或平面显示面板过程中，有优异去除在进行硬烘烤工艺、注入工艺和干法蚀刻工艺后产生的降解的光刻胶的能力，可以同时应用于铝(其为电位金属)、铜或银(其为过渡金属)、和同样地，金属氧化物电线，并且可以被引入有机膜和COA工艺中。

主权项

一种用于制造LCD的光刻胶剥离剂组合物，包括：(a)0.01重量％到3重量％的具有下述化学式1的一种电位金属和金属氧化物缓蚀剂；(b)0.01重量％到3重量％的具有下述化学式2的一种过渡金属缓蚀剂；(c)1重量％到20重量％的一种伯烷醇胺；(d)1重量％到30重量％的一种环状醇；(e)0.1重量％到40重量％的水；(f)1重量％到40重量％的非质子极性有机溶剂；和(g)20重量％到60重量％的质子极性有机溶剂；和<化学式1><化学式2>其中，在化学式1和化学式2中,T1和T2是‑O‑NH4+或‑O‑H；T3是‑O‑R或–R’；R和R'选自下组：氢、取代或未取代的C1到C12烷基、取代或未取代的C2～C12烯基、取代或未取代的C2～C12炔基、烷基酸、取代或未取代的C3～C12环烷基、具有3到10个核型原子的杂环烷基、C6～C20芳基、具有5到20个核型原子的杂芳基、C1～C12烷氧基和C6～C12芳氧基；X1、X2、X3和X4是C、N或O；R1选自下组：取代或未取代的C1～C5烷基、取代或未取代的C2～C5烯基和取代或未取代的C2～C5炔基；当X4是O时，R1不存在；和R2和R3选自下组：取代或未取代的C1到C8烷基、取代或未取代的C2～C8烯基、取代或未取代的C2～C8炔基、C3～C8环烷基、具有3到8个核型原子的杂环烷基、C6～C20芳基、具有5到20个核型原子的杂芳基、C1～C8烷氧基和C6～C10芳氧基。