[发明专利]低温固化组合物、固化膜以及电子装置有效
| 申请号： | 201680049195.6 | 申请日： | 2016-08-01 |
| 公开（公告）号： | CN107922620B | 公开（公告）日： | 2021-06-08 |
| 发明（设计）人： | 宋斗理;金佑翰;申东珠;柳鸿桢;李知虎 | 申请（专利权）人： | 三星SDI株式会社 |
| 主分类号： | C08G77/04 | 分类号： | C08G77/04;C08G59/30;C08L83/04;C08L63/00;C09D183/04;C09D163/00;H01L51/50 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 李艳;臧建明 |
| 地址： | 韩国京畿道龙仁*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明提供一种低温固化组合物、一种通过对所述组合物进行固化而获得的固化膜、以及一种包括所述固化膜的电子装置，所述组合物包含：(A)由以下化学式1表示的含环氧基的硅氧烷化合物：[化学式1](R |
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| 搜索关键词： | 低温 固化 组合 以及 电子 装置 | ||
【主权项】：
一种低温固化组合物，包含(A)由化学式1表示的含环氧基的硅氧烷化合物：[化学式1](R1R2R3SiO1/2)M(R4R5SiO2/2)D1(R6SiO3/2)T1(R7R8SiO2/2)D2(R9SiO3/2)T2(在化学式1中，R1到R9中的每一者独立地为独立地选自经取代或未经取代的C1到C6单价脂肪族烃基、经取代或未经取代的C6到C20单价脂环族烃基、经取代或未经取代的C6到C20单价芳香族烃基、及经环氧基取代的单价有机基的有机基，R1到R6中的至少一者为经环氧基取代的单价有机基，0≤M＜1，0≤D1＜1，0＜T1≤1，0≤D2＜1，0≤T2＜1，M+D1+T1+D2+T2＝1，其中由M、D1、T1、D2及T2表示的结构单元中的每一者包括一种或多种类型的不同的结构单元)；以及(B)用于环氧化物的开环反应的阳离子热引发剂，所述引发剂为锍系阳离子与硼酸根系阴离子的盐，其中所述由化学式1表示的化合物为数量平均分子量介于100到1,000范围内的硅氧烷化合物与数量平均分子量介于1,000到10,000范围内的硅氧烷化合物的组合。
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