[发明专利]荧光X射线分析装置

摘要

本发明的荧光X射线分析装置所具有的定量分析条件设定机构(13)针对多个标准试样(14)进行定性分析，根据其结果，设定在定量分析条件下的分析对象试样(1)的测定线的峰测定角度，并且将经过定性分析的多个标准试样(14)的峰形合成，求出单一的假想外形，根据假想外形和预定的峰形的半值宽度，设定在定量分析条件下的分析对象试样(1)的测定线的背景测定角度。

主权项

1.一种扫描型的荧光X射线分析装置，该扫描型的荧光X射线分析装置测定对试样照射一次X射线而产生的二次X射线的强度，该荧光X射线分析装置包括：多个标准试样，该多个标准试样用于形成与分析对象试样相对应的标准曲线；定量分析条件设定机构，该定量分析条件设定机构预先设定分析对象试样中的测定线和测定线的峰形的半值宽度以及各标准试样中的试样组成元素和其占比作为定量分析条件，上述定量分析条件设定机构进行如下操作：针对多个标准试样进行定性分析，针对通过各标准试样而鉴定的各测定线，求出峰检索的峰角度、基于该峰角度和预定的峰形的半值宽度的背景角度、以及上述峰角度中的峰强度和上述背景角度的背景强度中的净强度；针对每个测定线，将下述角度作为在定量分析条件下的分析对象试样中的测定线的峰测定角度而设定，该角度指在以测定线为中心的规定的角度范围内没有鉴定妨碍线且峰强度最大的标准试样的峰角度；针对每个测定线，将经过定性分析的多个标准试样的峰形合成，求出单一的假想外形，在相对测定线的低角度侧和高角度侧的每侧，将基于假想外形和预定的峰形的半值宽度的背景角度作为在定量分析条件下的分析对象试样中的测定线的背景测定角度而设定。