[发明专利]低反射率涂层以及用于涂覆基底的方法和系统有效
| 申请号： | 201680049912.5 | 申请日： | 2016-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN108027460B | 公开（公告）日： | 2020-11-03 |
| 发明（设计）人： | 南森·威廉·马奇;尚乃贵;苏珊娜·布斯托斯-罗德里格斯;本·波尔·詹森;奥利弗·克罗瑟利 | 申请（专利权）人： | 萨里纳米系统有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/00 | 分类号： | G02B5/00;B82Y30/00;C23C16/00 |
| 代理公司： | 成都超凡明远知识产权代理有限公司 51258 | 代理人： | 魏彦 |
| 地址： | 英国萨*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 低反射率涂层(20)由在基底(10)的接触表面(14)上的碳纳米结构的层(20)形成，该层来自将悬浮液中的碳纳米结构掺入溶剂的喷雾。碳纳米结构层提供了非常低的反射率涂层，其可通过刻蚀所述涂层的外表面而进一步强化。该层可被刻蚀用于降低反射率。已获得非常低的反射率涂层。 | ||
| 搜索关键词： | 反射率 涂层 以及 用于 基底 方法 系统 | ||
【主权项】：
1.一种用碳纳米结构涂覆基底的方法，包括步骤：(i)提供碳纳米结构在溶剂中的悬浮液；(ii)预热基底至足够温度以在所述悬浮液接触所述基底时引起所述溶剂蒸发；以及然后(iii)将所述悬浮液喷射-涂覆在所述基底上；(iv)在步骤(iii)期间保持所述基底在足够温度，以便保持被喷射-涂覆的所述溶剂蒸发；(v)继续步骤(iii)和步骤(iv)直到所述基底上已经涂覆具有至少2微米厚度的碳纳米结构的层；以及(vi)等离子体刻蚀涂层以减少膜密度并在所述涂层中产生光学腔，在沉积步骤前将光学隔离物添加到所述悬浮液中以便在所述涂层中产生光学腔，或其组合。
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