[发明专利]光刻设备对准传感器和方法有效
| 申请号： | 201680050090.2 | 申请日： | 2016-08-22 |
| 公开（公告）号： | CN107924146B | 公开（公告）日： | 2020-11-13 |
| 发明（设计）人： | S·G·J·马斯杰森;A·J·登博夫;N·潘迪;P·A·J·廷尼曼斯;S·M·怀特;K·S·E·埃克玛 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种光刻设备，包括：被构造为保持衬底的衬底台；以及被配置为感测设置到由衬底台保持的衬底上的对准标记的位置的传感器。传感器包括被配置为用辐射束照射对准标记的辐射源、被配置为检测已经与对准标记相互作用的辐射束作为离焦光学图案的检测器、以及数据处理系统。数据处理系统被配置为接收表示离焦光学图案的图像数据，并且处理图像数据以用于确定对准信息，包括向离焦光学图案应用无透镜成像算法。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 对准 传感器 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻设备，包括：衬底台，被构造为保持衬底；以及传感器，被配置为感测设置在由所述衬底台保持的所述衬底上的对准标记的位置，其中所述传感器包括：辐射源，被配置为用辐射束照射所述对准标记，检测器，被配置为检测已经与所述对准标记相互作用的所述辐射束作为离焦光学图案，以及数据处理系统，被配置为‑接收表示所述离焦光学图案的图像数据，以及‑处理所述图像数据以用于确定对准信息，包括向所述离焦光学图案应用无透镜成像算法。
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