[发明专利]用于控制蚀刻工艺的系统及方法有效
申请号: | 201680051259.6 | 申请日: | 2016-09-16 |
公开(公告)号: | CN107924855B | 公开(公告)日: | 2022-04-05 |
发明(设计)人: | F·察赫 | 申请(专利权)人: | 科磊股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/311;H01L21/3065;H01L21/66 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 张世俊 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种用于控制蚀刻工艺的系统包含蚀刻工具、计量工具及控制器。所述蚀刻工具可经由一组控制参数控制且可执行含有所述组控制参数的多个蚀刻配方。所述控制器可引导所述蚀刻工具对多个计量目标执行多个蚀刻配方;引导所述计量工具产生指示关于所述多个计量目标的两个或两个以上蚀刻特性的计量数据;基于所述计量数据确定所述两个或两个以上蚀刻特性与所述组控制参数之间的一或多个关系;及基于所述一或多个关系产生用以约束所述两个或两个以上蚀刻特性中的一者且将所述两个或两个以上蚀刻特性中的其余者维持于经定义界限内的特定蚀刻配方。 | ||
搜索关键词: | 用于 控制 蚀刻 工艺 系统 方法 | ||
【主权项】:
一种用于控制蚀刻工艺的系统,其包括:蚀刻工具,所述蚀刻工具可经由一组控制参数控制,所述蚀刻工具经配置以执行多个蚀刻配方,其中所述多个蚀刻配方的蚀刻配方包含所述组控制参数的值;计量工具;及控制器,其以通信方式耦合到所述蚀刻工具及所述计量工具,所述控制器包含一或多个处理器,其中所述一或多个处理器经配置以执行一或多个指令,所述一或多个指令经配置以致使所述一或多个处理器执行以下操作:引导所述蚀刻工具对多个计量目标执行多个蚀刻配方;引导所述计量工具产生指示关于所述多个计量目标的两个或两个以上蚀刻特性的计量数据;基于所述计量数据确定所述两个或两个以上蚀刻特性与所述组控制参数之间的一或多个关系;及基于所述一或多个关系产生用以约束所述两个或两个以上蚀刻特性中的一者且将所述两个或两个以上蚀刻特性中的其余者维持于经定义界限内的特定蚀刻配方。
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