[发明专利]涂覆设备有效
申请号: | 201680051966.5 | 申请日: | 2016-07-29 |
公开(公告)号: | CN108026641B | 公开(公告)日: | 2021-07-16 |
发明(设计)人: | I·R·威廉姆斯;D·雷兹贝克;D·M·尼尔森;K·D·桑德森 | 申请(专利权)人: | 皮尔金顿集团有限公司 |
主分类号: | C23C16/54 | 分类号: | C23C16/54;C03C17/00 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 李跃龙 |
地址: | 英国兰*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 描述了一种特别通过化学气相沉积在三维玻璃制品例如瓶子上进行涂覆沉积的设备。该设备适于并入玻璃容纳器的连续生产工艺的工厂中。 | ||
搜索关键词: | 设备 | ||
【主权项】:
1.一种用于涂覆三维玻璃制品的设备,包括:通道,该通道具有顶部和第一与第二侧壁,适合于布置在传送带上,使得传送带将制品从上游端运送到下游端,在该上游端制品进入通道,在下游端制品离开通道,其特征在于:布置在至少一个侧壁上用于输送气体射流的线性喷嘴阵列以输送气体射流,该射流横穿通过所述通道输送的制品的路径;布置在侧壁上的至少一个排气孔,该排气孔位于比线性喷嘴阵列更靠近下游端,以及用于将负压施加到排气孔的装置。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的