[发明专利]用于控制光刻设备的方法、光刻设备以及器件制造方法有效
| 申请号： | 201680053392.5 | 申请日： | 2016-08-23 |
| 公开（公告）号： | CN108027572B | 公开（公告）日： | 2020-09-18 |
| 发明（设计）人： | R·M·G·J·昆斯;A·J·唐科布洛克;P·安德里西奥拉;E·F·范韦斯特 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华;吕世磊 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 光刻设备使用高度传感器(LS)来获得表示跨衬底(718)的形貌变化的高度传感器数据(722)。使用(730)高度传感器数据来控制器件图案在跨衬底的多个位置处的聚焦。控制器标识高度传感器数据被判断为可靠的一个或多个第一区域(A)以及高度传感器数据被判断为不太可靠的一个或多个第二区域(B、C)。使用针对第一区域的高度传感器数据以及预期的器件特定形貌的先验知识(712)来针对第二区域计算(724)替代高度数据。使用来自传感器的高度数据和替代高度数据的组合来控制光刻设备的聚焦。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 控制 光刻 设备 方法 以及 器件 制造 | ||
【主权项】：
1.一种控制光刻设备以制造衬底上的一个或多个器件的方法，所述方法包括：(a)使用高度传感器来获得表示跨所述衬底的形貌变化的高度传感器数据；以及(b)使用所述高度传感器数据来控制所述光刻设备的定位系统，用于在跨所述衬底的多个位置处施加器件图案，其中步骤(b)包括：(b1)标识所述高度传感器数据被判断为可靠的一个或多个第一区域以及所述高度传感器数据被判断为不太可靠的一个或多个第二区域；(b2)使用针对所述第一区域的所述高度传感器数据以及预期的器件特定形貌的先验知识，来计算针对所述一个或多个第二区域的替代高度数据，以及(b3)使用所述替代高度数据与来自所述传感器的所述高度数据的组合来控制所述光刻设备。
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