[发明专利]用于在基底上气雾剂沉积纳米颗粒的装置和方法在审
申请号: | 201680053463.1 | 申请日: | 2016-06-14 |
公开(公告)号: | CN108026304A | 公开(公告)日: | 2018-05-11 |
发明(设计)人: | J·勒菲弗;P·马朗方 | 申请(专利权)人: | 加拿大国家研究委员会 |
主分类号: | C08J7/06 | 分类号: | C08J7/06;B05B1/10;B05D1/02;B82Y40/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 王海宁 |
地址: | 加拿大*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 提供了一种用于在基底上气雾剂沉积纳米颗粒的装置。所述装置包括:用于产生微米级液滴的气雾剂的气雾剂发生器,每个液滴具有有限数量的纳米颗粒;和用于从气雾剂发生器接收气雾剂的沉积室。所述沉积室具有用于将气雾剂中的液滴吸引到基底的静电场。所述静电场与基底基本上垂直。该装置允许在基底上将纳米颗粒的膜/网络图案化至亚毫米特征尺寸,这允许制造可印刷电子器件应用的晶体管器件。还提供了在基底上沉积纳米颗粒的方法以及具有此类纳米颗粒的网络的材料。 | ||
搜索关键词: | 用于 基底 气雾剂 沉积 纳米 颗粒 装置 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用于在基底上沉积纳米颗粒的装置,所述装置包括:气雾剂发生器,该气雾剂发生器用于产生微米级液滴的气雾剂,每个液滴包含有限数量的纳米颗粒;和用于从所述气雾剂发生器接收所述微米级液滴的沉积室,所述沉积室包含:用于将气雾剂中的液滴吸引到基底的静电场,其中所述静电场与基底基本上垂直。
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