[发明专利]用于光刻设备的对准传感器有效

专利信息
申请号: 201680054143.8 申请日: 2016-08-23
公开(公告)号: CN108112267B 公开(公告)日: 2020-10-02
发明(设计)人: A·波洛;S·G·J·马斯杰森;P·A·J·廷尼曼斯;S·D·克斯顿;R·J·哈弗林 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司;ASML控股股份有限公司
主分类号: G03F9/00 分类号: G03F9/00;G02B6/293
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 王茂华;张宁
地址: 荷兰维*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种光刻设备包括被配置用于确定包括周期性结构的对准目标的位置的对准传感器。对准传感器包括解多路复用器(700)以解多路复用多个强度通道(一个示出为在光纤702处的输出)。解多路复用器包括串联设置的多个级以及许多解多路复用部件(706,708a,b,710a‑d,712a‑h),每个解多路复用部件可操作用于划分输入辐射束为两个辐射束部分。第一级具有设置用于接收入射辐射束作为输入辐射束的第一解多路复用部件(706)。每个后续级设置使其具有两倍于前一级的解多路复用部件的数目,在第一级之后每个级的每个解多路复用部件接收从前一级的解多路复用部件输出的辐射束部分的一个作为输入。
搜索关键词: 用于 光刻 设备 对准 传感器
【主权项】:
1.一种用于对包括第一波长频段的入射辐射束进行解多路复用的设备,所述设备包括:串联布置的多个级,所述多个级包括第一级以及一个或多个后续级;以及多个解多路复用部件,每个解多路复用部件可操作用于将输入辐射束划分成两个辐射束部分,其中:所述第一级包括第一解多路复用部件,被布置用于接收所述入射辐射束作为输入辐射束,以及所述多个解多路复用部件被布置为使得每个后续级包括两倍于前一级的解多路复用部件的数目,在所述第一级之后的每个级的每个解多路复用部件接收从所述前一级的解多路复用部件输出的辐射束部分中的辐射束部分作为输入。
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