[发明专利]具有近似锯齿波脉冲的RF功率传输有效
| 申请号： | 201680054823.X | 申请日： | 2016-07-19 |
| 公开（公告）号： | CN108028167B | 公开（公告）日： | 2020-04-21 |
| 发明（设计）人： | 川崎胜正;S·F·秀吉;J·斐;D·清水 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H05H1/46;H03K4/08 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 金红莲;侯颖媖 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本文提供一种使用多电平脉冲RF功率来操作等离子体增强基板处理系统的方法。在一些实施例中，使用多电平脉冲RF功率来操作等离子体增强基板处理系统的方法包括以下步骤：提供第一多电平RF功率波形到处理腔室，所述第一多电平RF功率波形至少具有第一脉冲持续时间期间的第一功率电平、第二脉冲持续时间期间的第二功率电平、和第三脉冲持续时间期间的第三功率电平，以及在第一延迟周期之后，提供第二多电平RF功率波形到所述处理腔室，所述第二多电平RF功率波形至少具有第一脉冲持续时间期间的第一功率电平、第二脉冲持续时间期间的第二功率电平、及第三脉冲持续时间期间的第三功率电平。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 近似 锯齿 脉冲 rf 功率 传输 | ||
【主权项】：
1.一种使用多电平脉冲RF功率来操作等离子体增强基板处理系统的方法，包含以下步骤：提供第一多电平RF功率波形到处理腔室，所述第一多电平RF功率波形至少具有第一脉冲持续时间期间的第一功率电平、第二脉冲持续时间期间的第二功率电平、和第三脉冲持续时间期间的第三功率电平；以及在第一延迟周期之后，提供第二多电平RF功率波形到所述处理腔室，所述第二多电平RF功率波形至少具有第一脉冲持续时间期间的第一功率电平、第二脉冲持续时间期间的第二功率电平、和第三脉冲持续时间期间的第三功率电平。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于应用材料公司，未经应用材料公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201680054823.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：具有防滴设备的料盒
- 下一篇：基站装置和终端以及用于分配无线信道的方法
