[发明专利]光源装置以及投光装置有效
| 申请号： | 201680054925.1 | 申请日： | 2016-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN108027118B | 公开（公告）日： | 2020-10-30 |
| 发明（设计）人： | 深草雅春 | 申请（专利权）人： | 松下知识产权经营株式会社 |
| 主分类号： | F21S2/00 | 分类号： | F21S2/00;F21V5/04;F21V9/40;G02B3/08;H01L33/50;H01L33/58;H01S5/022;F21Y115/30 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴秋明 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 光源装置(1)具备：半导体发光元件(11)(激光元件)；光学元件(20)，其具有被分割成多个区域的多个透镜区域(21)，由多个透镜区域(21)使从半导体发光元件(11)出射的光的强度分布发生变化；和荧光体元件(30)，其发出由光学元件(20)而使强度分布发生变化的光，作为激发光(54)，荧光体元件(30)配置为该荧光体元件(30)的发光面从以激发光(54)的光轴为法线的面倾斜，多个透镜区域(21)的各个透镜区域具有相互不同的第1焦点，入射到多个透镜区域(21)而在第1焦点聚光的各光在荧光体元件(30)的发光面重叠。 | ||
| 搜索关键词： | 光源 装置 以及 | ||
【主权项】：
1.一种光源装置，具备：激光元件；光学元件，其具有被分割成多个区域的多个透镜区域，由所述多个透镜区域使从所述激光元件出射的光的强度分布发生变化；和荧光体元件，其发出由所述光学元件使强度分布发生变化的光，作为激发光，所述荧光体元件配置为该荧光体元件的发光面从以所述激发光的光轴为法线的面倾斜，所述多个透镜区域的各个透镜区域具有相互不同的第1焦点，入射到所述多个透镜区域而在所述第1焦点聚光的各光在所述荧光体元件的发光面重叠。
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