[发明专利]光刻设备及器件制造方法

摘要

计算出在浸没光刻设备中支撑衬底的衬底支撑结构的路线以满足下列约束：在所述衬底的边缘首先接触浸没空间之后，所述衬底保持与所述浸没空间接触直至曝光所有目标部分为止；在所述衬底在扫描方向上移动的同时执行目标部分的曝光；和在曝光之间的所述衬底的所有移动在平行于其上部表面的平面中要么是曲线的，要么仅在所述扫描方向或横向方向之一上进行。为了减少衬底的边缘的缺陷，避免将浸没液体暴露到待曝光的衬底(W)的外侧。转移路线(R51)设计为超出晶片表面。

主权项

1.一种用于将经图案化的束曝光至衬底的目标部分上的光刻设备，所述光刻设备包括：投影系统，所述投影系统被配置成投影经图案化的束且具有最终光学元件；衬底支撑结构，所述衬底支撑结构被配置成在所述经图案化的束中支撑衬底；液体限制结构，所述液体限制结构配置成将液体限制至在所述最终光学元件与所述衬底之间的浸没空间；定位装置，所述定位装置配置成定位所述衬底支撑结构且由此定位所述衬底；和控制器，所述控制器配置成控制所述定位装置使得所述衬底支撑结构遵循包括下述的路线：第一曝光运动，在所述第一曝光运动期间所述衬底以恒定速度沿第一方向移动；第一过渡运动，在所述第一过渡运动期间所述衬底在正交于所述第一方向的第二方向上被加速且在所述第一方向上被减速；第二过渡运动，在所述第二过渡运动期间所述衬底在包含所述第一方向和所述第二方向的平面中的运动仅在所述第二方向上进行；第三过渡运动，在所述第三过渡运动期间所述衬底在所述第一方向上加速且在所述第二方向上减速；第四过渡运动，在所述第四过渡运动中所述衬底的在包含所述第一方向和所述第二方向的所述平面中的运动仅平行于所述第一方向；和第二曝光运动，在所述第二曝光运动期间所述衬底以恒定速度在平行于所述第一方向的方向上移动。