[发明专利]一种光刻设备和光刻系统有效
| 申请号： | 201680058663.6 | 申请日： | 2016-09-09 |
| 公开（公告）号： | CN108139687B | 公开（公告）日： | 2020-01-10 |
| 发明（设计）人： | 弗洛里安·朗诺斯 | 申请（专利权）人： | 华为技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/213 | 分类号： | G03F7/213 |
| 代理公司： | 11329 北京龙双利达知识产权代理有限公司 | 代理人： | 时林;毛威 |
| 地址： | 518129 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种光刻设备(100)和光刻系统，该光刻设备(100)包括：光开关(110)和N个光子器件(120)，光开关(110)包括N个子光开关(111，112)，N个子光开关(111，112)与N个光子器件(120,130)一一对应，N为正整数且N≥2；每个子光开关(111，112)的状态包括开启状态和关闭状态，处于开启状态的子光开关(111，112)用于将光束传输至对应的光子器件(120,130)，处于关闭状态的子光开关(111，112)不能将光束传输至对应的光子器件(120,130)；每个光子器件(120,130)包括分束装置(121,131)和聚焦透镜(122,132)。该光刻设备(100)无需改变光刻设备(100)与基材的相对位置即可制备出需要的图案，避免了平移步骤和对准步骤，从而提高了处理效率以及在基材上形成的干涉图案的精确度。 | ||
| 搜索关键词： | 光开关 光刻设备 光子器件 光刻系统 光束传输 开启状态 基材 平移 处理效率 分束装置 干涉图案 聚焦透镜 正整数 制备 对准 图案 | ||
【主权项】：
1.一种光刻设备，其特征在于，包括：/n光开关和N个光子器件，所述光开关包括N个子光开关，所述N个子光开关与所述N个光子器件一一对应，所述N为正整数且N≥2；/n每个子光开关的状态包括开启状态和关闭状态，处于开启状态的子光开关用于将光束传输至对应的光子器件，处于关闭状态的子光开关不能将光束传输至对应的光子器件；/n每个光子器件包括分束装置和聚焦透镜；/n所述分束装置用于将从对应的子光开关接收的一路光束分为至少两路光束，并将所述至少两路光束传输至所述聚焦透镜；/n所述聚焦透镜用于将所述至少两路光束聚焦到基底上形成干涉图案；/n所述光刻设备根据需要制备的干涉图案打开子光开关或者关闭子光开关，并通过处于开启状态的子光开关在基材表面形成所述需要制备的干涉图案。/n
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