[发明专利]离子源溅射有效
| 申请号： | 201680059535.3 | 申请日： | 2016-10-11 |
| 公开（公告）号： | CN108475612B | 公开（公告）日： | 2021-11-19 |
| 发明（设计）人： | 维克多·贝利多-冈萨雷斯 | 申请（专利权）人： | 基恩科有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/34 | 分类号： | H01J37/34;H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 张晶;赵赫 |
| 地址： | 英国默*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种离子源，其包括：电极(1)；反电极(2)；装置(3)，其用于在电极(1)和反电极(2)之间产生电势；一个或多个磁体(4)，其被布置为在使用中限制在施加所述电势时在电极(1)周围产生的等离子体；以及孔隙，其在反电极中，来自所述等离子体的离子通过该孔隙可以逸出；其特征在于：用于在电极(1)和反电极(2)之间产生电势的装置(3)包括DC信号发生器，该DC信号发生器：电连接到电极(1)和反电极(2)；适于在使用时向电极(1)和反电极(2)施加基线DC电势，其中电极(1)的DC电势相对于反电极(2)的DC电势为正；以及适于在使用时施加叠加在基线DC电势上的DC脉冲(33)的时序。 | ||
| 搜索关键词： | 离子源 溅射 | ||
【主权项】：
1.一种离子源，其包括：电极(1)；反电极(2)；装置(3)，其用于在所述电极(1)和所述反电极(2)之间产生电势；一个或多个磁体(4)，其被布置为使用时限制在施加所述电势时在所述电极(1)周围产生的等离子体；以及孔隙，其在所述反电极中，来自所述等离子体的离子通过所述孔隙逸出；其特征在于：用于在所述电极(1)和所述反电极(2)之间产生电势的装置(3)包括DC信号发生器，所述DC信号发生器：电连接到所述电极(1)和所述反电极(2)；适于在使用时向所述电极(1)和所述反电极(2)施加基线DC电势，其中所述电极(1)的DC电势相对于所述反电极(2)的DC电势为正；以及适于在使用时施加叠加在所述基线DC电势上的DC脉冲(33)的时序。
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