[发明专利]作为无电金属沉积用稳定剂的水溶性且空气稳定的磷杂金刚烷在审
申请号: | 201680059667.6 | 申请日: | 2016-10-06 |
公开(公告)号: | CN108495952A | 公开(公告)日: | 2018-09-04 |
发明(设计)人: | S·谢弗;K·松杰拉斯;M·克雷恩菲尔德 | 申请(专利权)人: | 麦克德米德乐思公司 |
主分类号: | C23C18/34 | 分类号: | C23C18/34;C23C18/40;C23C18/44 |
代理公司: | 北京三幸商标专利事务所(普通合伙) 11216 | 代理人: | 刘卓然 |
地址: | 美国康*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明涉及水溶性且空气稳定的磷杂金刚烷在用于无电金属沉积的电解液中作为稳定剂的用途。本发明公开了一种电解液,以及一种金属无电沉积的方法。所镀敷的金属层可包含镍、铜、钴、硼、银、钯或金,以及含有至少一种前述金属作为合金金属的合金。本发明还涉及一种用于无电镀敷制程的有机稳定剂,以及一种用于在基板上无电沉积出金属层的电解液,包含待沉积金属的金属离子源、还原剂、络合剂、稳定剂以及优选地包含加速剂。也公开了一种利用根据本发明的电解液在基板上无电沉积出金属层的方法。 | ||
搜索关键词: | 电解液 金属层 稳定剂 磷杂金刚烷 无电沉积 无电金属 基板 沉积 金属无电沉积 金属离子源 有机稳定剂 沉积金属 合金金属 还原剂 加速剂 络合剂 无电镀 镀敷 优选 制程 合金 金属 | ||
【主权项】:
1.一种用于在基板上无电沉积出金属层的水性电解液组合物,其包含:待沉积金属的金属离子源;还原剂;络合剂;加速剂:以及稳定剂,其特征在于该稳定剂为通式I的磷杂金刚烷:其中碳原子1~6上的氢原子可彼此独立地被由氟、氯、溴、具有1~6个碳原子的烷基、具有1~6个碳原子的烷氧基、及具有1~6个碳原子的醇基所组成的群组中的一个基团取代。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
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C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
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