[发明专利]耐蚀光学装置有效
| 申请号： | 201680060850.8 | 申请日： | 2016-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN109690365B | 公开（公告）日： | 2022-08-23 |
| 发明（设计）人： | 詹森·I·雷德利 | 申请（专利权）人： | 美题隆公司 |
| 主分类号： | G02B5/08 | 分类号： | G02B5/08 |
| 代理公司： | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人： | 黎雷 |
| 地址： | 美国俄*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了一种耐蚀光学装置。该装置包括衬底、该衬底上的银层以及提供耐磨性的绝缘层。该装置浸入富硫醇的溶液中。硫醇在任何暴露的银表面上形成缓蚀单层。这增加了该光学装置的环境抵抗力，从而使水不与该银层相互作用。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 装置 | ||
【主权项】：
1.一种耐蚀光学装置，包括：衬底；绝缘层；位于所述衬底和所述绝缘层之间的银层；以及覆盖所述银层的任何暴露表面至少一部分的缓蚀单层。
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