[发明专利]制备柱状间隔物的方法在审
| 申请号： | 201680061943.2 | 申请日： | 2016-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN108351560A | 公开（公告）日： | 2018-07-31 |
| 发明（设计）人： | 金莲玉;朴锡凤;崔庆植;李秀敏 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料韩国有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1339 | 分类号： | G02F1/1339;G02F1/13 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈哲锋;胡嘉倩 |
| 地址： | 韩国忠*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种制备柱状间隔物的方法，并且其特征在于使用包括具有不同透光率的第一、第二和第三图案的掩模。另外，根据本发明的用于制备柱状间隔物的方法，在制造基质部分和间隔物部分连续连接的柱状间隔物期间，所述基质部分与所述间隔物部分之间的锥角可以增加，并且所述间隔物部分的临界尺寸会减小。因此，可以简单且高效地制造具有精细图案的柱状间隔物。 | ||
| 搜索关键词： | 间隔物 制备柱 柱状间隔物 基质 部分连续 精细图案 透光率 减小 掩模 锥角 制造 图案 | ||
【主权项】：
1.一种制备柱状间隔物的方法，其中基质部分和从所述基质部分突出的间隔物部分一体成型，所述方法包含使用具有图案的掩模用光照射感光性树脂组合物的涂膜，然后进行显影，其中所述掩模包含(1)用于形成所述间隔物部分的第一图案；(2)用于形成所述基质部分的第二图案，所述第二图案与所述第一图案相邻定位并且具有比所述第一图案低的透光率；(3)位于所述第一图案与所述第二图案之间的边界处的第三图案，所述第三图案具有比所述第二图案低的透光率，以及所述掩模的所述第三图案在所述柱状间隔物的所述基质部分与所述间隔物部分之间的边界处形成从所述基质部分凹入的谷。
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