[发明专利]于高温退火后保持高矫顽力的具有垂直磁各向异性的磁性组件有效

专利信息
申请号: 201680063801.X 申请日: 2016-09-07
公开(公告)号: CN108352447B 公开(公告)日: 2022-02-25
发明(设计)人: 刘焕龙;李元仁;朱健;诺真·杰;童露丝;路克·汤马斯 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L43/08 分类号: H01L43/08;H01L43/10;H01L43/12;H01L43/02
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 黄艳;郑特强
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种磁性穿隧接面(MTJ),其中自由层具有与穿隧阻障层所形成的一个界面和与金属氧化物层所形成的第二界面,以促进其垂直磁各向异性(PMA)。一扩散阻障层形成在金属氧化物层与第二界面相对的一侧上,以防止硬罩幕或电极中的非磁性金属迁移到第二界面,并降低自由层的PMA。另一扩散阻障层可以形成在第二电极和参考层之间。扩散阻障层可以是SiN、TiN、TaN、Mo或CoFeX的单层,其中X是Zr、P、B或Ta,或者是如CoFeX/Mo的多层,其中CoFeX接触金属氧化物层,且Mo邻接硬罩幕。因此,在400℃30分钟的退火后,可以保持或增加MTJ中的矫顽力。
搜索关键词: 高温 退火 保持 矫顽力 具有 垂直 各向异性 磁性 组件
【主权项】:
1.一种磁性存储元件,形成在一第一电极和一第二电极之间,包括:(a)一穿隧阻障层,其与一自由层的一第一表面形成一第一界面,从而诱导或增强该自由层中的垂直磁各向异性(PMA);(b)该自由层;(c)一Hk增强层,为一金属氧化物层,其在与该自由层的该第一表面相对的一第二表面处形成一第二界面,从而诱导或增强该自由层中的PMA;及(d)一非磁性扩散阻障层,形成于该Hk增强层与该第一电极或该第二电极其中一个之间,该非磁性扩散阻障层包括SiN、TiN、Mo、W、Cr、V或CoaFebXc或CoFeNiX,其中X为Zr、Hf、Nb、Cu、Mo、B、P和Ta其中一种,且(a+b+c)=100原子%。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201680063801.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top