[发明专利]用于制造隔膜组件的方法

摘要

一种用于制造用于EUV光刻术的隔膜组件的方法，所述方法包括：提供包括平坦衬底和至少一个隔膜层的叠层，其中所述平坦衬底包括内部区和围绕所述内部区的边框区；将所述叠层定位于支撑件上，使得曝光所述平坦衬底的所述内部区；和使用非液体蚀刻剂来选择性地移除所述平坦衬底的所述内部区，使得所述隔膜组件包括：由所述至少一个隔膜层形成的隔膜；和保持所述隔膜的边框，所述边框由所述平坦衬底的所述边框区形成。

主权项

1.一种用于制造用于EUV光刻术的隔膜组件的方法，所述方法包括：提供包括平坦衬底和至少一个隔膜层的叠层，其中所述平坦衬底包括内部区、围绕所述内部区的边框区、围绕所述边框区的桥接区以及围绕所述桥接区的边缘区；邻近于所述平坦衬底的所述桥接区形成穿过所述至少一个隔膜层的桥接凹槽；选择性地移除所述平坦衬底的所述内部区和所述桥接区，使得所述隔膜组件包括：由所述至少一个隔膜层形成的隔膜；保持所述隔膜的边框，所述边框由所述平坦衬底的所述边框区形成；围绕所述边框的边缘区段，所述边缘区段由所述平坦衬底的所述边缘区形成；和在所述边框与所述边缘区段之间的桥接件，所述桥接件由所述至少一个隔膜层形成；以及将所述边缘区段与所述边框分离开使得邻近于所述边缘区段的所述至少一个隔膜层通过所述桥接凹槽与所述隔膜分离开。