[发明专利]光学隔离模块在审
| 申请号： | 201680064410.X | 申请日： | 2016-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN108351529A | 公开（公告）日： | 2018-07-31 |
| 发明（设计）人： | 陶业争;D·J·W·布朗;A·A·沙夫甘斯;P·P·达斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G02B27/10 | 分类号： | G02B27/10;H01S3/02;H05G2/00;G02B27/40;G03F1/22 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 用于光刻工具的光源包括：被配置为发出第一光束和第二光束的源，第一光束具有第一波长，并且第二光束具有第二波长，第一波长和第二波长不同；放大器，被配置为将第一光束和第二光束放大，以分别产生第一放大光束和第二放大光束；以及光源与放大器之间的光学隔离器，光学隔离器包括：多个二向色光学元件以及两个二向色光学元件之间的光学调制器。 | ||
| 搜索关键词： | 波长 放大器 光学隔离器 色光学元件 光源 放大 光学隔离模块 光学调制器 光刻工具 光束放大 配置 | ||
【主权项】：
1.一种用于光刻工具的光源，所述光源包括：被配置为发出第一光束和第二光束的源，所述第一光束具有第一波长，并且所述第二光束具有第二波长，所述第一波长和所述第二波长不同；放大器，被配置为将所述第一光束和所述第二光束放大，以分别产生第一放大光束和第二放大光束；以及所述源和所述放大器之间的光学隔离器，所述光学隔离器包括：多个二向色光学元件，以及所述二向色光学元件中的两个二向色光学元件之间的光学调制器。
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