[发明专利]利用光不稳定过渡金属络合物的氧化还原可聚合牙科用组合物有效
申请号: | 201680064523.X | 申请日: | 2016-11-02 |
公开(公告)号: | CN108348404B | 公开(公告)日: | 2021-06-08 |
发明(设计)人: | W·H·莫泽;E·M·汤森;M·A·克洛普;R·E·贝灵;J·D·克拉珀 | 申请(专利权)人: | 3M创新有限公司 |
主分类号: | A61K6/887 | 分类号: | A61K6/887;A61K6/80;A61K6/20;A61K6/30;A61K6/35;A61K6/54 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 李勇;徐一琨 |
地址: | 美国明*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明公开了包含氧化还原引发剂体系的可聚合牙科用组合物。所述氧化还原引发剂体系包含光解和引发氧化还原循环的光不稳定过渡金属络合物。 | ||
搜索关键词: | 利用 不稳定 过渡 金属 络合物 氧化 还原 聚合 牙科 组合 | ||
【主权项】:
1.一种牙科用组合物,其包含:至少一种多官能单体,所述多官能单体包含至少两个烯属不饱和基团;以及氧化还原引发体系,所述体系包含:a)氧化剂b)还原剂,和c)具有以下化学式的光不稳定过渡金属络合物:其中R光为光不稳定基团;M+为参与氧化还原循环的过渡金属;每个X1和X2独立地选自‑N‑、‑S‑和‑O‑;每个X3和X4独立地选自‑NR1‑和‑S‑;每个R1独立地选自:H、烷基、环烷基烷基、杂环烷基、芳基烷基、杂芳基烷基、烷氧基、卤素、甲酰基、羟基、酰基、芳氧基、烷硫基、氨基、烷基氨基、芳基烷基氨基、二取代的氨基、酰基氨基、酰氧基、酯、酰胺和羧基烷基;每个相邻对的R1和R2可以独立地形成具有相应的杂原子X3和X4的杂环烷基或杂芳基基团;每个R2、R3、R4、R5、R6和R7独立地选自:H、烷基、烯基、炔基、环烷基、环烷基烷基、环烷基烯基、环烷基炔基、杂环基、杂环烷基、杂环烯基、杂环炔基、芳基、芳基烷基、芳基烯基、芳基炔基、杂芳基、杂芳基烷基、杂芳基烯基、杂芳基炔基、烷氧基、卤素、巯基、叠氮基、氰基、甲酰基、羧酸、羧基烷基、羟基、硝基、酰基、芳氧基、烷硫基、氨基、烷基氨基、芳基烷基氨基、二取代的氨基、酰氨基、酰氧基、酯、酰胺、磺酰基、磺酰基、磺酸酯、磺酸、磺酰胺、脲、烷氧基酰氨基和氨基酰氧基;条件是当R1和R2形成具有相应杂原子X3‑X4的杂芳基基团时,R3不存在;R4和R5可以一起形成氧代基;或者R6和R7可以一起形成氧代基;x为1至2;并且y为1至3;或其盐。
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