[发明专利]磁体阵列、电线圈装置、移位系统、光刻设备及器件制造方法在审
| 申请号： | 201680064631.7 | 申请日： | 2016-10-04 |
| 公开（公告）号： | CN108350976A | 公开（公告）日： | 2018-07-31 |
| 发明（设计）人： | J·M·M·罗韦尔斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | F16F15/03 | 分类号： | F16F15/03;G03F7/20;H02K41/03 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王静 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种用于移位系统的移位装置的磁体阵列，所述磁体阵列包括第一类型的磁体和第二类型的磁体的二维图案，由此第一类型的磁体和第二类型的磁体具有平行但相反的磁化方向，所述第一类型的磁体和第二类型的磁体在第一方向和第二方向两者上被以规则的间隔交替布置，其中，第一方向和第二方向不相互垂直，在第三方向上同一类型的两个相邻磁体之间的距离不等于在第四方向上同一类型的两个相邻磁体之间的距离；和所述第三方向和第四方向相互垂直。 | ||
| 搜索关键词： | 磁体阵列 相邻磁体 移位系统 垂直 磁化方向 二维图案 光刻设备 间隔交替 器件制造 移位装置 电线圈 平行 | ||
【主权项】：
1.一种用于移位系统的磁体阵列，所述磁体阵列包括第一类型的磁体和第二类型的磁体的二维图案，由此第一类型的磁体和第二类型的磁体具有大致垂直于所述阵列的平面的、相反的磁化方向，所述第一类型的磁体和第二类型的磁体在第一方向和第二方向两者上被以规则的间隔交替布置，其中：所述第一方向和第二方向不相互垂直；在第三方向上第一类型的两个相邻磁体之间的距离不等于在第四方向上第一类型的两个相邻磁体之间的距离；或在第三方向上第二类型的两个相邻磁体之间的距离不等于在第四方向上第二类型的两个相邻磁体之间的距离。
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