[发明专利]通过差分测量跟踪磁体的位置的方法有效
申请号: | 201680064960.1 | 申请日: | 2016-10-07 |
公开(公告)号: | CN108351735B | 公开(公告)日: | 2021-05-07 |
发明(设计)人: | 特里斯坦·奥森 | 申请(专利权)人: | ISKN公司 |
主分类号: | G06F3/046 | 分类号: | G06F3/046 |
代理公司: | 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 | 代理人: | 谢攀;刘继富 |
地址: | 法国圣马*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明公开了一种跟踪相对于磁力计阵列移动的磁体的位置的方法。基于由阵列的每个磁力计检测到的磁场来估计磁体的位置。该估计基于考虑先前建立的参考磁场,该参考磁场从每个磁力计检测到的磁场中被减去,以形成差分测量。对磁体的位置的各个连续地估计使得可以跟踪其路径。 | ||
搜索关键词: | 通过 测量 跟踪 磁体 位置 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用于估计磁体(15)的位置(r(tn))的方法,所述磁体相对于包括多个磁力计(10i)的磁力计阵列移动,每个磁力计能够测量由所述磁体沿着至少一个测量轴(xi,yi,zi)产生的磁场(Bi),所述方法包括以下步骤:a)利用每个磁力计在参考时间(tref,tref,j)测量参考磁场(Bi(tref),Bi(tref,j));b)将在所述参考时间的参考位置(rref(tref),rref(tref,j))赋予所述磁体,所述参考位置被赋为任意位置或赋为所述磁体在所述参考时间的位置的估计值;c)在继所述参考时间之后的测量时间(tn),利用每个磁力计(10i)测量由所述磁体产生的磁场(Bi(tn));d)针对每个磁力计(10i),计算表示步骤c)中测量的磁场(Bi(tn))与步骤a)中测量的参考磁场(Bi(tref),Bi,j(tref,j))之差的差分磁场(ΔBi(tn),ΔBi,j(tn));e)基于每个差分磁场(ΔBi(tn),ΔBi,j(tn))和对所述参考位置(rref(tref)、rref(tref,j)、rref(tn‑1)、rref(tn‑1,j))的估计值,估计所述磁体在所述测量时间(tn)的位置(r(tn)),所述估计由递归估计器来进行,在第一次迭代中,所述磁体的参考位置是在所述参考时间赋予所述磁体的位置;以及f)基于步骤e)中获得的估计值重复步骤c)到e),同时递增测量时间。
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