[发明专利]将物场成像到像场中的成像光学单元，以及包括这种成像光学单元的投射曝光设备有效
| 申请号： | 201680065535.4 | 申请日： | 2016-11-07 |
| 公开（公告）号： | CN108292032B | 公开（公告）日： | 2021-03-19 |
| 发明（设计）人： | A.沃尔夫;H-J.罗斯塔尔斯基 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G02B17/06 | 分类号： | G02B17/06;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军;王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及投射光刻的成像光学单元(7)，其具有多个反射镜(M1至M8)，以将成像光(3)从物场(4)引导到像场(8)中。物场(4)沿着第一、较大物场尺寸和沿着第二、较小物场尺寸由两个物场坐标(x，y)跨越。成像光学单元(7)具有至少两个掠入射反射镜(M2，M3，M5，M6)和至少一个法线入射反射镜(M4)，该法线入射反射镜(M4)布置在成像光束路径中的两个掠入射反射镜(M3，M5)之间。该法线入射反射镜(M4)的采用的反射表面具有在沿着第一反射表面坐标(x)的表面尺寸和沿着平行于第二物场尺寸的第二反射表面坐标(y)的表面尺寸之间的纵横比(x/y)，该纵横比小于4.5。结果是具有制造成本减少的成像光学单元。 | ||
| 搜索关键词： | 将物场 成像 到像场 中的 光学 单元 以及 包括 这种 投射 曝光 设备 | ||
【主权项】：
1.一种投射光刻的成像光学单元(7；21；22；23；24)‑包括多个反射镜(M1至M8)，所述多个反射镜将成像光(3)沿着成像光束路径从物平面(5)中的物场(4)引导到像平面(9)中的像场(8)中；‑其中所述物场(4)由以下跨越：‑‑沿着较大的第一物场尺寸的第一笛卡尔物场坐标(x)，和‑‑沿着小于所述第一物场尺寸的第二物场尺寸的第二笛卡尔物场坐标(y)，‑其中所述成像光学单元(7；21；22；23；24)具有至少两个GI反射镜(M2，M3，M5，M6)；‑其中所述成像光学单元(7；21；22；23；24)具有至少一个NI反射镜(M4)，所述至少一个NI反射镜(M4)布置在所述成像光束路径中的两个GI反射镜(M3，M5)之间；‑其中所述NI反射镜(M4)的使用的反射表面具有在以下之间的纵横比(x/y)：‑‑沿着第一反射表面坐标(x)的表面尺寸和沿着平行于所述第二物场尺寸的第二反射表面坐标(y)的表面尺寸，‑‑所述纵横比小于4.5。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于卡尔蔡司SMT有限责任公司，未经卡尔蔡司SMT有限责任公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201680065535.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
