[发明专利]高耐热性抗蚀剂组合物以及使用其的图案形成方法有效

专利信息
申请号: 201680066965.8 申请日: 2016-11-02
公开(公告)号: CN108351588B 公开(公告)日: 2021-10-22
发明(设计)人: 铃木理人;仁川裕;片山朋英 申请(专利权)人: AZ电子材料(卢森堡)有限公司
主分类号: G03F7/004 分类号: G03F7/004;G03F7/038;G03F7/20;G03F7/40
代理公司: 北京三幸商标专利事务所(普通合伙) 11216 代理人: 刘卓然
地址: 卢森堡*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种高耐热性抗蚀剂组合物以及使用该组合物的图案形成方法。本发明提供了包含特定聚合物和特定交联剂的化学放大型负型抗蚀剂组合物,并且该组合物使得可以形成高灵敏度、优异分辨率和强耐热性的抗蚀图案。
搜索关键词: 耐热性 抗蚀剂 组合 以及 使用 图案 形成 方法
【主权项】:
1.一种化学放大型负型抗蚀剂组合物,包含:(I)含有由下式(Ia)表示的重复单元的聚合物:其中A是氢或具有1~3个碳原子的烃基,B是具有1~5个碳原子的烃基,并且x是0或更大的整数,y是1或更大的整数,条件是x+y≤5;(II)由下式(IIa)或(IIb)表示的交联剂:其中n是1或更大的整数,R1是具有1~15个碳原子的取代或未取代的烃基,R2是氢、羟基或具有1~15个碳原子的取代或未取代的烃基;其中l和m是表示聚合比的数,条件是m不等于0,每一侧的重复单元可以随机聚合或形成嵌段,C和D各自独立地为氢或具有1~3个碳原子的烃基,E和F各自独立地为具有1~5个碳原子的烃基,R3是氢或具有1~4个碳原子的烃基,p是0或更大的整数,q是1或更大的整数,s是1或更大的整数,r是0~4的整数,条件是p+q≤5且r+s≤4;(III)产酸剂;和(IV)溶剂。
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