[发明专利]用于加成法制造的经改进的不含锑的可辐射固化组合物及其在熔模铸造工艺中的应用

摘要

描述了并要求保护用于加成法制造的可辐射固化组合物。所述组合物特别适用于熔模铸造应用，其包含可阳离子聚合的组分、可自由基聚合的组分、某种类型的规定的不含锑的锍盐基阳离子光引发剂和自由基光引发剂。在其他实施方式中，所述组合物还可以包含光敏剂和/或UV/吸收剂。还描述了并要求保护在熔模铸造工艺中使用用于加成法制造的液体可辐射固化树脂的方法，所述液体可辐射固化树脂含有某种类型的规定的不含锑的锍盐基阳离子光引发剂和某种类型的规定的光敏剂。

主权项

1.一种用于加成法制造的液体可辐射固化组合物，所述组合物包含：可阳离子聚合的组分；可自由基聚合的组分；不含锑的阳离子光引发剂，其含有阴离子，所述阴离子选自PF6‑、BF4‑、((CF3)2C6H3)4B‑、(C6F5)4Ga‑、((CF3)2C6H3)4Ga‑、三氟甲烷磺酸根、九氟丁烷磺酸根、甲烷磺酸根、丁烷磺酸根、苯磺酸根、对甲苯磺酸根和PFα(Rf)β，其中α和β相同或不同，并且是1‑8的整数，Rf含有碳原子和卤原子，和以下通式的阳离子：其中R1、R2、R3、R5和R6各自独立地代表烷基、羟基、烷氧基、烷基羰基、芳基羰基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、芳基硫代羰基、酰氧基、芳硫基、烷硫基、芳基、杂环烃基、芳氧基、烷基亚磺酰基、芳基亚磺酰基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、羟基(聚)亚烷基氧基、任选取代的氨基、氰基、硝基或卤原子，R4代表烷基、羟基、烷氧基、烷基羰基、烷氧基羰基、酰氧基、烷硫基、杂环烃基、烷基亚磺酰基、烷基磺酰基、羟基(聚)亚烷基氧基、任选取代的氨基、氰基、硝基或卤原子，m1至m6各自代表R1至R6各自的出现次数，m1、m4和m6各自代表0‑5的整数，m2、m3和m5各自代表0‑4的整数；以及具有以下结构的光敏剂：其中R1‑R14独立地为H或C1‑C8饱和的或不饱和的、有支链或无支链的、经取代的或未取代的烃基；和自由基光引发剂。