[发明专利]用于产生射束成形全息光学元件的方法有效

专利信息
申请号: 201680067594.5 申请日: 2016-11-18
公开(公告)号: CN108351613B 公开(公告)日: 2021-08-03
发明(设计)人: T.费克;F-K.布鲁德;G.瓦尔策;A.普蒂林 申请(专利权)人: 科思创德国股份有限公司
主分类号: G03H1/04 分类号: G03H1/04;G02B5/32;G03H1/02
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 周学斌;申屠伟进
地址: 德国勒*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明涉及用于在光聚合记录介质中记录多个散射体积全息图的方法,该方法至少包括以下步骤:提供第一激光源;提供包括基板和光活性层的光聚合记录介质,其中光聚合记录介质具有至少0.04的折射率调制△n,和至少25μm的光活性层的厚度d;利用由第一激光源生成的第一激光射束以3*Di的最小照射能量剂量来照射光聚合记录介质,Di是光活性层的抑制剂量,其中实行对光聚合记录介质的照射,以使得照射的第一激光射束的光在散射中心处被散射,通过由第一激光射束所引发的光活性层中的化学反应来生成该散射中心,由此通过照射的第一激光射束与第一激光射束的被散射光之间的相互作用形成多个散射体积全息图。
搜索关键词: 用于 产生 成形 全息 光学 元件 方法
【主权项】:
1.用于在光聚合记录介质(6)中记录多个散射体积全息图的方法,所述方法至少包括以下步骤:a. 提供第一激光源;b. 提供包括基板(6.2)和光活性层(6.1)的光聚合记录介质(6),其中所述光聚合记录介质(6)具有至少0.04的折射率调制△n,和至少25 μm的所述光活性层(6.1)的厚度d;c. 利用由所述第一激光源生成的第一激光射束(4)以3*Di的最小照射能量剂量来照射所述光聚合记录介质(6),Di是所述光活性层(6.1)的抑制剂量;其中实行对所述光聚合记录介质(6)的照射,以使得照射的第一激光射束(4、4.1、4.2、4.3、4.4)的光在散射中心(12)处被散射,通过由所述第一激光射束(4、4.1、4.2、4.3、4.4)所引发的所述光活性层(6.1)中的化学反应来生成所述散射中心(12),由此通过所述照射的第一激光射束(4、4.1、4.2、4.3、4.4)与所述第一激光射束(4、4.1、4.2、4.3、4.4)的被散射光(4.1’、4.3’)之间的相互作用形成多个散射体积全息图(16、16.1、16.2)。
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