[发明专利]铜蚀刻用组合物及过氧化氢类金属蚀刻用组合物有效
| 申请号： | 201680068003.6 | 申请日： | 2016-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN108291314B | 公开（公告）日： | 2020-09-11 |
| 发明（设计）人： | 金允澈;朴钟熙;权伦琼;张郁 | 申请（专利权）人： | OCI有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/10 | 分类号： | C23F1/10;C23F1/14;C23F1/16;C23F1/18 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 吕琳;宋东颖 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及铜蚀刻用组合物及过氧化氢类金属蚀刻用组合物，更具体地，涉及如下过氧化氢类金属蚀刻用组合物，能够防止铜蚀刻用组合物及过氧化氢类金蚀刻用组合物中的过氧化氢的分解及其他成分的改性，上述铜蚀刻用组合物可通过提高在铜与有机物之间形成的螯合键的稳定性来抑制从蚀刻用组合物产生铜沉淀物。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 组合 过氧化氢 金属 | ||
【主权项】：
1.一种铜蚀刻用组合物，包含：过氧化氢；选自乙酸类螯合剂、磺酸类螯合剂及膦酸类螯合剂中的至少一种螯合剂；由下述化学式1表示的螯合稳定剂；以及水，上述铜蚀刻用组合物的特征在于，在上述铜蚀刻用组合物中，上述螯合剂与上述螯合稳定剂的重量比为1：0.1至1：0.4，化学式1：![]()
在上述化学式1中，R1至R3为C1‑C3亚烷基。
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