[发明专利]从玻璃基材去除无机涂层在审
| 申请号： | 201680068503.X | 申请日： | 2016-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN108290775A | 公开（公告）日： | 2018-07-17 |
| 发明（设计）人： | 金宇辉;李艾泽 | 申请（专利权）人： | 康宁股份有限公司 |
| 主分类号： | C03C15/00 | 分类号： | C03C15/00;C03C17/32 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 徐鑫;项丹 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 描述了对玻璃基材上的无机层进行蚀刻的方法，该方法包括将包含无机层的玻璃基材与包含极性有机溶剂和蚀刻剂的蚀刻溶液接触，其中，以无机层蚀刻速率去除无机层，以及以玻璃蚀刻速率蚀刻玻璃基材。 | ||
| 搜索关键词： | 玻璃基材 无机层 蚀刻 去除 极性有机溶剂 玻璃蚀刻 蚀刻溶液 无机涂层 蚀刻剂 | ||
【主权项】：
1.一种对玻璃基材上的无机层进行蚀刻的方法，该方法包括：将包含无机层的玻璃基材与包含极性有机溶剂和蚀刻剂的蚀刻溶液接触，其中，以无机层蚀刻速率去除无机层，以及以玻璃蚀刻速率蚀刻玻璃基材。
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