[发明专利]抗蚀剂图案形成方法和抗蚀剂材料

摘要

本发明的抗蚀剂图案形成方法含有抗蚀剂层形成步骤、图案曝光步骤、泛光曝光步骤以及显影步骤。抗蚀剂层形成步骤中，在基板上形成抗蚀剂层。图案曝光步骤中，由抗蚀剂层的增感体前驱体生成增感剂。泛光曝光步骤中，对生成了增感剂的抗蚀剂层进行泛光曝光，由强酸产生剂产生酸。显影步骤中，对抗蚀剂层进行显影。图案曝光步骤中，由强酸产生剂产生强酸，通过强酸与增感剂前驱体的反应来生成增感剂，通过强酸与碱的反应来生成弱酸，并通过弱酸与增感剂前驱体的反应来生成增感剂。

主权项

1.一种抗蚀剂图案形成方法，包含：抗蚀剂层形成步骤，在基板上形成含有基体树脂、增感剂前驱体、强酸产生剂和碱的抗蚀剂层；图案曝光步骤，通过对所述抗蚀剂层进行图案曝光，由所述增感剂前驱体生成增感剂；泛光曝光步骤，在所述图案曝光步骤之后对生成了所述增感剂的所述抗蚀剂层进行泛光曝光，由所述强酸产生剂产生酸；以及显影步骤，在所述泛光曝光步骤之后对所述抗蚀剂层进行显影，所述图案曝光步骤包含：由所述强酸产生剂产生强酸的步骤；通过所述强酸与所述增感剂前驱体的反应来生成增感剂的步骤；以及通过所述强酸与所述碱的反应生成弱酸后，再通过所述弱酸与所述增感剂前驱体的反应来生成增感剂的步骤。