[发明专利]光束强度变换光学系统以及光束强度变换透镜有效
| 申请号： | 201680068709.2 | 申请日： | 2016-10-07 |
| 公开（公告）号： | CN108292046B | 公开（公告）日： | 2020-07-21 |
| 发明（设计）人： | 长谷山亮 | 申请（专利权）人： | 松下知识产权经营株式会社 |
| 主分类号： | G02B27/09 | 分类号： | G02B27/09;G02B13/00;G02B13/18;G11B7/1372 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 韩丁 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开的光束强度变换光学系统(3)具备：激光源(4)；和光束强度变换透镜(5)，对从激光源(4)射出的激光光线(1)的光强度分布进行变换并使其照射到照射区域(6)，光束强度变换透镜(5)是单片构造，并且，光束强度变换透镜(5)的近轴像面(7)的位置与照射区域(6)的位置在光轴(8)上不同。此外，光束强度变换透镜(5)在近轴像面(7)的纵向球面像差特性中，比70％像高更靠外侧的纵向球面像差的位移宽度为70％像高处的纵向球面像差量的20％以内。 | ||
| 搜索关键词： | 光束 强度 变换 光学系统 以及 透镜 | ||
【主权项】：
1.一种光束强度变换光学系统，具备：激光源；和光束强度变换透镜，对从所述激光源射出的激光光线的光强度分布进行变换并使其照射到照射区域，所述光束强度变换透镜是单片构造，所述光束强度变换透镜的近轴像面的位置与所述照射区域的位置在所述激光光线的光轴上不同。
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