[发明专利]包含具有低折射率的有机-无机层的制品在审

专利信息
申请号: 201680069889.6 申请日: 2016-12-16
公开(公告)号: CN108779551A 公开(公告)日: 2018-11-09
发明(设计)人: S·基亚罗托;J·克莱伯格-赛皮哈;M·卡朗 申请(专利权)人: 依视路国际公司;蒙特利尔综合理工学院公司
主分类号: C23C14/06 分类号: C23C14/06;C03C17/00;G02B1/111;G02B1/115;C23C14/24
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 刘娜;张振军
地址: 法国沙*** 国省代码: 法国;FR
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摘要: 发明涉及一种包括基材的制品,所述基材具有至少一个主表面,所述主表面涂覆有通过共蒸发而真空沉积至少一种选自碱土金属的氟化物的金属化合物A和至少一种有机硅化合物B获得的材料M的层L,材料M在632.8nm的波长下具有在从1.38至1.47范围内的折射率。根据本发明:‑有机化合物B包含有机硅酸盐化合物或有机硅酸盐化合物的混合物;并且‑化合物B以气态形式在离子轰击的存在下沉积。
搜索关键词: 有机硅酸盐化合物 主表面 基材 有机硅化合物 金属化合物 有机化合物 有机-无机 低折射率 碱土金属 离子轰击 气态形式 真空沉积 化合物B 混合物 氟化物 共蒸发 折射率 波长 涂覆 沉积
【主权项】:
1.一种包括基材的制品,所述基材具有至少一个主表面,所述主表面涂覆有通过共蒸发而真空沉积至少一种选自碱土金属氟化物的金属化合物A和至少一种有机化合物B获得的至少一种材料M的至少一个层L,所述材料M在632.8nm的波长下具有在从1.38至1.47范围内的折射率,其特征在于:‑所述有机化合物B包含有机硅化合物或有机硅化合物的混合物;并且‑所述化合物B的呈气态形式的沉积在离子轰击的存在下进行。
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