[发明专利]紫外线反射膜和溅射靶在审
| 申请号： | 201680069937.1 | 申请日： | 2016-10-28 |
| 公开（公告）号： | CN108431291A | 公开（公告）日： | 2018-08-21 |
| 发明（设计）人： | 吉田慎太郎;奥野博行;中井淳一 | 申请（专利权）人： | 株式会社钢臂功科研 |
| 主分类号： | C23C14/14 | 分类号： | C23C14/14;C22C21/00;C22C21/12;C23C14/34;G02B5/08 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张玉玲 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供一种通过将构成紫外线反射膜的稀土类元素、Cu和其余的Al的量、以及稀土类元素与Cu的比率控制在规定的范围，从而波长254nm的紫外线的反射率为85％以上的紫外线反射膜。一种紫外线反射膜，其含有一种或两种以上的稀土类元素：0.2at％以上且3.0at％以下，和Cu：0.2at％以上且6.0at％以下中的任意一者，余量由Al和不可避免的杂质构成，满足下述(1)式，波长254nm的紫外线的反射率为85％以上。X+0.5Y＜3.5…(1)[X是稀土类元素的量[at％]，Y是Cu的量[at％]。]。 | ||
| 搜索关键词： | 紫外线反射膜 稀土类元素 反射率 波长 紫外线 比率控制 溅射靶 | ||
【主权项】：
1.一种紫外线反射膜，其中，含有一种或两种以上的稀土类元素：0.2at％以上且3.0at％以下、和Cu：0.2at％以上且6.0at％以下中的至少一者，余量由Al和不可避免的杂质构成，满足下述(1)式，X+0.5Y＜3.5…(1)在此，X是以at％计的稀土类元素的量，Y是以at％计Cu的量，波长254nm的紫外线的反射率为85％以上。
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