[发明专利]作为杀真菌剂的吡啶化合物

摘要

吡啶化合物本发明涉及化合物I，其中各变量如说明书和权利要求书中所定义。本发明进一步涉及化合物I的用途、方法和中间体。式(I)化合物用于防治植物病原性真菌。

主权项

1.式I化合物及其N‑氧化物和可农用盐：其中R1选自卤素、CN、NO2、SH、NH2、NH(C1‑C4烷基)、N(C1‑C4烷基)2、NH‑SO2‑R11、C1‑C6烷基、C2‑C6链烯基、C2‑C6炔基、C1‑C6烷氧基、C(＝O)‑(R12)、C3‑C6环烷基、5或6员杂芳基和芳基；其中该杂芳基含有1、2或3个选自N、O和S的杂原子；其中R11选自C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、芳基或杂芳基，其未被取代或者被1、2、3、4或5个独立地选自C1‑C4烷基的取代基R111取代；和R12独立地选自H、C1‑C6烷基、C2‑C6链烯基、C2‑C6炔基、C3‑C8环烷基、O‑R121、N(R122)(R123)；R121独立地选自H、C1‑C6烷基、C2‑C6链烯基、C2‑C6炔基、C3‑C8环烷基；R122、R123独立地选自H、C1‑C6烷基、C1‑C6链烯基、C1‑C6炔基和C3‑C8环烷基；其中R1的脂族结构部分未被取代或者被相互独立地选自如下的相同或不同基团R1a取代：R1a为卤素、OH、CN、C1‑C6烷氧基、C3‑C6环烷基、C3‑C6卤代环烷基、C1‑C4卤代烷氧基、C1‑C6烷硫基、苯基和苯氧基，其中该苯基和苯氧基未被取代或者带有1、2、3、4或5个选自卤素、OH、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4烷氧基和C1‑C4卤代烷氧基的取代基R11a；和其中R1的环烷基、杂芳基和芳基结构部分未被取代或者被1、2、3、4、5个或至多最大数目的相互独立地选自如下的相同或不同基团R1b取代：R1b为卤素、OH、CN、C1‑C4烷基、C1‑C4烷氧基、C1‑C4卤代烷基、C3‑C6环烷基、C3‑C6卤代环烷基、C1‑C4卤代烷氧基和C1‑C6烷硫基；R2选自卤素、CN、NO2、SH、NH2、NH(C1‑C4烷基)、N(C1‑C4烷基)2、NH‑SO2‑R21、C1‑C6烷基、C2‑C6链烯基、C2‑C6炔基、C1‑C6烷氧基、C(＝O)‑(R22)、C3‑C6环烷基、5或6员杂芳基和芳基；其中该杂芳基含有1、2或3个选自N、O和S的杂原子；其中R21选自C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、芳基或杂芳基，其未被取代或者被1、2、3、4或5个独立地选自C1‑C4烷基的取代基R211取代；和R22独立地选自H、C1‑C6烷基、C2‑C6链烯基、C2‑C6炔基、C3‑C8环烷基、O‑R221、N(R222)(R223)；R221独立地选自H、C1‑C6烷基、C2‑C6链烯基、C2‑C6炔基、C3‑C8环烷基；R222、R223独立地选自H、C1‑C6烷基、C2‑C6链烯基、C2‑C6炔基、C3‑C8环烷基；其中R2的脂族结构部分未被取代或者被相互独立地选自如下的相同或不同基团R2a取代：R2a为卤素、OH、CN、C1‑C6烷氧基、C3‑C6环烷基、C3‑C6卤代环烷基、C1‑C4卤代烷氧基、C1‑C6烷硫基、苯基和苯氧基，其中该苯基和苯氧基未被取代或者带有1、2、3、4或5个选自卤素、OH、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4烷氧基和C1‑C4卤代烷氧基的取代基R21a；和其中R2的环烷基、杂芳基和芳基结构部分未被取代或者被1、2、3、4、5个或至多最大数目的相互独立地选自如下的相同或不同基团R2b取代：R2b为卤素、OH、CN、C1‑C4烷基、C1‑C4烷氧基、C1‑C4卤代烷基、C3‑C6环烷基、C3‑C6卤代环烷基、C1‑C4卤代烷氧基和C1‑C6烷硫基；R3选自H、卤素、OH、CN、NO2、SH、NH2、NH(C1‑C4烷基)、N(C1‑C4烷基)2、NH‑SO2‑R31、C1‑C6烷基、C2‑C6链烯基、C2‑C6炔基、C1‑C6烷氧基、C3‑C6环烷基、5或6员杂芳基和芳基；其中该杂芳基含有1、2或3个选自N、O和S的杂原子；其中R31选自C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、芳基或杂芳基，其未被取代或者被1、2、3、4或5个独立地选自C1‑C4烷基的取代基R311取代；并且其中R3的脂族结构部分未被取代或者被相互独立地选自如下的相同或不同基团R3a取代：R3a为卤素、OH、CN、C1‑C6烷氧基、C3‑C6环烷基、C3‑C6卤代环烷基、C1‑C4卤代烷氧基、C1‑C6烷硫基、苯基和苯氧基，其中该苯基和苯氧基未被取代或者带有1、2、3、4或5个选自卤素、OH、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4烷氧基和C1‑C4卤代烷氧基的取代基R31a；并且其中R3的环烷基、杂芳基和芳基结构部分未被取代或者被1、2、3、4、5个或至多最大数目的相互独立地选自如下的相同或不同基团R3b取代：R3b为卤素、OH、CN、C1‑C4烷基、C1‑C4烷氧基、C1‑C4卤代烷基、C3‑C6环烷基、C3‑C6卤代环烷基、C1‑C4卤代烷氧基和C1‑C6烷硫基；R4选自H、卤素、OH、CN、NO2、SH、NH2、NH(C1‑C4烷基)、N(C1‑C4烷基)2、NH‑SO2‑R41、C1‑C6烷基、C2‑C6链烯基、C2‑C6炔基、C1‑C6烷氧基、C3‑C6环烷基、5或6员杂芳基和芳基；其中该杂芳基含有1、2或3个选自N、O和S的杂原子；其中R41选自C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、芳基或杂芳基，其未被取代或者被1、2、3、4或5个独立地选自C1‑C4烷基的取代基R411取代；并且其中R4的脂族结构部分未被取代或者被相互独立地选自如下的相同或不同基团R4a取代：R4a为卤素、OH、CN、C1‑C6烷氧基、C3‑C6环烷基、C3‑C6卤代环烷基、C1‑C4卤代烷氧基、C1‑C6烷硫基、苯基和苯氧基，其中该苯基和苯氧基未被取代或者带有1、2、3、4或5个选自卤素、OH、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4烷氧基和C1‑C4卤代烷氧基的取代基R41a；并且其中R4的环烷基、杂芳基和芳基结构部分未被取代或者被1、2、3、4、5个或至多最大数目的相互独立地选自如下的相同或不同基团R4b取代：R4b为卤素、OH、CN、C1‑C4烷基、C1‑C4烷氧基、C1‑C4卤代烷基、C3‑C6环烷基、C3‑C6卤代环烷基、C1‑C4卤代烷氧基和C1‑C6烷硫基；Y为O或S(O)n，其中n为0、1或2；Q1选自C1‑C6烷基、C2‑C6链烯基、C2‑C6炔基、C3‑C6环烷基、5或6员杂芳基和芳基；其中该杂芳基含有1、2或3个选自N、O和S的杂原子；其中Q1的脂族结构部分未被取代或者被相互独立地选自如下的相同或不同基团Q1a取代：Q1a为卤素、OH、CN、C1‑C6烷氧基、C3‑C6环烷基、C3‑C6卤代环烷基、C1‑C4卤代烷氧基、C1‑C6烷硫基、苯基和苯氧基，其中该苯基和苯氧基未被取代或者带有1、2、3、4或5个选自卤素、OH、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4烷氧基和C1‑C4卤代烷氧基的取代基Q11a；其中Q1的环烷基、杂芳基和芳基结构部分未被取代或者被1、2、3、4、5个或至多最大数目的相互独立地选自如下的相同或不同基团Q1b取代：Q1b为卤素、OH、CN、C1‑C4烷基、C1‑C4烷氧基、C1‑C4卤代烷基、C3‑C6环烷基、C3‑C6卤代环烷基、C1‑C4卤代烷氧基和C1‑C6烷硫基；Q2选自H、C1‑C6烷基、C2‑C6链烯基、C2‑C6炔基、C3‑C6环烷基、5或6员杂芳基和芳基；其中该杂芳基含有1、2或3个选自N、O和S的杂原子；其中Q2的脂族结构部分未被取代或者被相互独立地选自如下的相同或不同基团Q2a取代：Q2a为卤素、OH、CN、C1‑C6烷氧基、C3‑C6环烷基、C3‑C6卤代环烷基、C1‑C4卤代烷氧基、C1‑C6烷硫基、苯基和苯氧基，其中该苯基和苯氧基未被取代或者被1、2、3、4或5个选自卤素、OH、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4烷氧基和C1‑C4卤代烷氧基的取代基Q12取代；其中Q2的环烷基、杂芳基和芳基结构部分未被取代或者被1、2、3、4、5个或至多最大数目的相互独立地选自如下的相同或不同基团Q2b取代：Q2b为卤素、OH、CN、C1‑C4烷基、C1‑C4烷氧基、C1‑C4卤代烷基、C3‑C6环烷基、C3‑C6卤代环烷基、C1‑C4卤代烷氧基和C1‑C6烷硫基；Q1和Q2与它们所键合的碳原子一起形成3‑7员饱和或部分不饱和碳环或杂环，其中该环可以另外含有1、2、3或4个选自N‑RN、O和S的杂原子，其中RN选自H、C1‑C4烷基和SO2RQ；其中RQ选自C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、未被取代的芳基或被1、2、3、4或5个独立地选自C1‑C4烷基的取代基RQ1取代的杂芳基；并且其中S可以呈其氧化物SO或SO2形式；并且其中在每种情况下该碳环或杂环的一个或两个CH2基团可以被独立地选自C(＝O)和C(＝S)的基团替代；并且其中该环未被取代或者被1、2、3、4、5个或至多最大数目的相互独立地选自如下的相同或不同基团RQR取代：QQR为卤素、OH、CN、C1‑C4烷基、C1‑C4烷氧基、C1‑C4卤代烷基、C3‑C6环烷基、C3‑C6卤代环烷基、C1‑C4卤代烷氧基和C1‑C6烷硫基；Q3选自H、C1‑C6烷基、C2‑C6链烯基、C2‑C6炔基、C3‑C6环烷基、5或6员杂芳基和芳基；其中该杂芳基含有1、2或3个选自N、O和S的杂原子；其中Q3的脂族结构部分未被取代或者被相互独立地选自如下的相同或不同基团Q3a取代：Q3a为卤素、OH、CN、C1‑C6烷氧基、C3‑C6环烷基、C3‑C6环烷氧基、C3‑C6卤代环烷基、C1‑C4卤代烷氧基、C1‑C6烷硫基、苯基、苯氧基和5‑10员杂环、杂芳基、杂环氧基、杂芳氧基；其中该杂环或杂芳基含有1、2或3个选自N、O和S的杂原子；其中该环烷基、环烷氧基、苯基、苯氧基、杂环和杂芳基未被取代或者被1、2、3、4或5个选自卤素、OH、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4烷氧基、C1‑C4卤代烷氧基、CR’＝NOR”、C3‑C6环烷基、C3‑C6环烷氧基、苯基、苯氧基和5‑10员杂环、杂环氧基、杂芳基和杂芳氧基的取代基Q13a取代；其中该杂环、杂环氧基、杂芳基或杂芳氧基含有1、2或3个选自N、O和S的杂原子；并且其中苯基、苯氧基、杂环、环烷基和杂芳基未被取代或者被1、2、3、4或5个选自卤素、OH、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4烷氧基、CN、CR’＝NOR”和C1‑C4卤代烷氧基的取代基Q113a取代；其中Q3的环烷基、杂芳基和芳基结构部分未被取代或者被1、2、3、4、5个或至多最大数目的相互独立地选自如下的相同或不同基团Q3b取代：Q3b为卤素、OH、CN、C1‑C6烷氧基、C3‑C6环烷基、C3‑C6环烷氧基、C3‑C6卤代环烷基、C1‑C4卤代烷氧基、C1‑C6烷硫基、苯基、苯氧基和5‑10员杂环、杂芳基、杂环氧基、杂芳氧基；其中该杂环或杂芳基含有1、2或3个选自N、O和S的杂原子；其中苯基、苯氧基、杂环、环烷基和杂芳基未被取代或者被1、2、3、4或5个选自卤素、OH、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4烷氧基、C1‑C4卤代烷氧基、CR’＝NOR”、C3‑C6环烷基、C3‑C6环烷氧基、苯基、苯氧基和5‑10员杂环、杂环氧基、杂芳基和杂芳氧基的取代基Q13b取代；其中该杂环、杂环氧基、杂芳基或杂芳氧基含有1、2或3个选自N、O和S的杂原子；并且其中苯基、苯氧基、杂环、环烷基和杂芳基未被取代或者被1、2、3、4或5个选自卤素、OH、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4烷氧基、CN、CR’＝NOR”和C1‑C4卤代烷氧基的取代基Q113b取代；并且其中R’和R”独立地未被取代或者被独立地选自卤素、OH、CN、NO2、SH、NH2、NH(C1‑C4烷基)、N(C1‑C4烷基)2、C1‑C6烷基、C1‑C6卤代烷基、C2‑C6链烯基、C2‑C6卤代链烯基、C2‑C6炔基、C2‑C6卤代炔基、C1‑C6烷氧基、C1‑C6卤代烷氧基、C3‑C6环烷基、C3‑C6卤代环烷基和苯基的R”’取代；W为O或S；X选自H、卤素、OH、CN、C1‑C4烷基、C1‑C4烷氧基、C1‑C4卤代烷基、C3‑C6环烷基、C3‑C6卤代环烷基、C1‑C4卤代烷氧基和C1‑C6烷硫基；其中n为0、1、2、3或4；条件是若R1为CH3，则R2不为CH3；并且若R2为CH3，则R1不为CH3。