[发明专利]形成用于亚分辨率基板图案化的蚀刻掩模的方法

摘要

本文公开的技术提供了用于间距减小以创建高分辨率特征件并且还在亚分辨率特征件的间距上进行切割的方法和制造结构。技术包括：使用具有不同蚀刻特性的多种材料来选择性地蚀刻特征件，并且在指定的地方创建切口或块。首先，在下层或待蚀刻的层上设置硬掩模。在硬掩模上形成交替材料的图案。优选地，交替材料中的一种或更多种可以相对于其他材料被移除，以使硬掩模层的一部分未被覆盖。硬掩模和交替材料的其余线一起形成限定亚分辨率特征件的组合蚀刻掩模。

主权项

1.一种图案化基板的方法，所述方法包括：在基板上形成图案化硬掩模层，所述图案化硬掩模层包括遮蔽下层的一部分的硬掩模材料，所述图案化硬掩模层包括填充所述图案化硬掩模层的其余部分的填充材料，所述填充材料相对于所述硬掩模材料具有不同的蚀刻阻性；在所述图案化硬掩模层上方形成多线层，所述多线层包括具有两种或更多种不同材料的交替线图案的区域，其中，每条线具有水平厚度、垂直高度并且跨所述图案化硬掩模层延伸，其中，所述交替线图案的每条线在所述多线层的顶表面上未被覆盖并且垂直延伸至所述多线层的底表面，其中，所述两种或更多种不同材料中的至少两种通过相对于彼此具有不同的蚀刻阻性而在化学上彼此不同；以及选择性地移除所述两种或更多种不同材料中的至少一种，从而导致所述图案化硬掩模层的一部分未被覆盖。