[发明专利]微流体布置有效
| 申请号： | 201680073970.1 | 申请日： | 2016-10-14 |
| 公开（公告）号： | CN108472647B | 公开（公告）日： | 2021-06-29 |
| 发明（设计）人： | 彼得·理查德·库克;亚历山大·福尔伯恩;埃德蒙·沃尔什 | 申请（专利权）人： | 牛津大学科技创新有限公司 |
| 主分类号： | B01L3/00 | 分类号： | B01L3/00 |
| 代理公司： | 北京商专永信知识产权代理事务所(普通合伙) 11400 | 代理人： | 方挺;周锐 |
| 地址： | 英国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开提供了用于操作流体的微流体布置。该微流体布置包括：基底、第一流体、以及与第一流体不混溶的第二流体。第一流体布置成至少部分地被第二流体覆盖。第一流体以期望的形状布置在基底的未图案化的表面上。第一流体通过第一流体和第二流体之间的流体界面保持形状。本公开还提供了包含流体滴阵列的微流体布置。该微流体布置包括：基底、第一流体以及与第一流体不混溶的第二流体。第一流体布置成至少部分地被第二流体覆盖。第一流体以给定的流体滴阵列布置在基底的未图案化的表面上。各流体滴横截面积具有纵横比(高度:宽度)为(1:2)或更小。本公开还提供了制造用于操作流体的微流体布置的方法。该方法包括将第一流体以期望的形状布置在基底的未图案化的表面上。该方法还包括布置与第一流体不混溶的第二流体，以至少部分地覆盖第一流体。第一流体通过第一流体和第二流体之间的流体界面保持形状。该方法还包括干燥第一流体以在基底上形成形状的残余物。 | ||
| 搜索关键词： | 流体 布置 | ||
【主权项】：
1.用于操作流体的微流体布置，包括：基底；第一流体；以及第二流体，其与第一流体不混溶；其中所述第一流体布置成至少部分地被所述第二流体覆盖；其中所述第一流体以期望的形状布置在所述基底的未图案化的表面上，所述第一流体通过第一流体和第二流体之间的流体界面保持所述形状。
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