[发明专利]形貌测量系统有效
| 申请号： | 201680074778.4 | 申请日： | 2016-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN108474651B | 公开（公告）日： | 2020-09-15 |
| 发明（设计）人： | 罗纳德·弗朗西斯克斯·赫尔曼·胡格斯;马丁努斯·科内利斯·雷伊宁;鲍拉斯·安东尼斯·安德里亚斯·特尤尼森 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/25 | 分类号： | G01B11/25;G01N21/95;G01B11/30;H01L21/66 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种形貌测量系统，包括：辐射源；第一光栅；成像光学装置；移动机构；检测光学装置；第二光栅；和检测器。所述辐射源被配置成产生包括紫外辐射的辐射束，且包括用以产生紫外辐射的发光二极管。所述第一光栅被配置成图案化所述辐射束。所述成像光学装置被配置成在衬底上的目标部位处形成所述第一光栅的第一图像。所述移动机构能够操作以将所述衬底相对于所述第一光栅的所述图像而移动，使得所述目标部位相对于所述衬底而移动。所述检测光学装置被配置成从所述衬底的所述目标部位接收辐射且在所述第二光栅处形成所述第一图像的像。所述检测器被配置成接收透射通过所述第二光栅的辐射且产生输出信号。 | ||
| 搜索关键词： | 形貌 测量 系统 | ||
【主权项】：
1.一种用于确定衬底的形貌的测量系统，所述系统包括：辐射源，配置成产生辐射束，所述辐射源包括用以提供辐射的发光二极管；第一图案形成装置，配置成图案化所述辐射束；光学装置，配置成在所述衬底上的目标部位处形成所述第一图案形成装置的图像；移动机构，能够操作以将所述衬底相对于所述第一图案形成装置的所述图像而移动，使得所述目标部位相对于所述衬底而移动；检测光学装置，配置成接收从所述衬底的所述目标部位反射的辐射且在光栅处形成第一图像的像；和检测器，配置成接收透射通过所述光栅的辐射且产生输出信号。
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