[发明专利]寡核苷酸的制备方法以及核苷、核苷酸或寡核苷酸

摘要

本发明提供寡核苷酸的制备方法，其包括：(1)在非极性溶剂中，使其中5’位羟基未被保护的核苷、核苷酸或寡核苷酸(a)等，与其中5’位羟基被保护的核苷、核苷酸或寡核苷酸(b)缩合，以获得含有亚磷酸三酯产物(c)的反应液的步骤；(3)使亚磷酸三酯产物(c)氧化或硫化，以获得含有其中5’位羟基被保护的寡核苷酸(d)的反应液的步骤；(4)将寡核苷酸(d)脱保护，以获得含有其中5’位羟基未被保护的寡核苷酸(e)的反应液的步骤；和(6)向含有寡核苷酸(e)的反应液中添加极性溶剂，并通过固液分离或萃取来纯化寡核苷酸(e)的步骤。

主权项

1.寡核苷酸的制备方法，该方法包含以下的步骤(1)、(3)、(4)和(6)，步骤(1)：在非极性溶剂中，向包含核苷、核苷酸或寡核苷酸(a)或者取代的核苷酸或寡核苷酸(α)的反应液中添加核苷、核苷酸或寡核苷酸(b)，使核苷、核苷酸或寡核苷酸(a)或者取代的核苷酸或寡核苷酸(α)与核苷、核苷酸或寡核苷酸(b)缩合，以获得包含5’位羟基被在酸性条件下可除去的临时保护基保护的亚磷酸三酯产物(c)的反应液，所述核苷、核苷酸或寡核苷酸(a)中，5’位羟基未被保护，选自核酸碱基的氨基和亚氨基、核糖残基的2’位羟基、3’位羟基和3’位氨基、以及脱氧核糖残基的3’位羟基和3’位氨基中的至少一个基团被在酸性条件下不可除去但在碱性条件下可除去的保护基保护，且其它基团任选进而被用于核酸合成的保护基保护，所述取代的核苷酸或寡核苷酸(α)中，5’位羟基未被保护，3’位磷酸基团的一个羟基被‑OLn1‑OH置换，‑OLn1‑OH的羟基被在酸性条件下不可除去但在碱性条件下可除去的保护基保护，且其它基团任选进而被用于核酸合成的保护基保护，上述式中Ln1表示有机基团，所述核苷、核苷酸或寡核苷酸(b)中，3’位羟基或3’位氨基被亚磷酰胺化，5’位羟基被在酸性条件下可除去的临时保护基保护，且其它基团任选进而被选自在酸性条件下不可除去但在碱性条件下可除去的保护基和用于核酸合成的保护基中的保护基保护；步骤(3)：向包含亚磷酸三酯产物(c)的反应液中添加氧化剂或硫化剂，使亚磷酸三酯产物(c)氧化或硫化，以获得包含5’位羟基被在酸性条件下可除去的临时保护基保护的寡核苷酸(d)的反应液；步骤(4)：向氧化或硫化后的反应液中添加酸来除去5’位羟基的临时保护基，以获得包含5’位羟基未被保护的寡核苷酸(e)的反应液；和步骤(6)：向包含寡核苷酸(e)的反应液中添加极性溶剂，通过固液分离或萃取来纯化寡核苷酸(e)。