[发明专利]用于制备浊点降低的基础油的方法在审
| 申请号： | 201680075330.4 | 申请日： | 2016-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN108473884A | 公开（公告）日： | 2018-08-31 |
| 发明（设计）人： | E·J·克雷格顿;E·P·基弗;D·伦克玛;D·德琼格 | 申请（专利权）人： | 国际壳牌研究有限公司 |
| 主分类号： | C10G65/04 | 分类号： | C10G65/04;C10G65/12;C10M171/02;C10M109/02 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 李勇;吕小羽 |
| 地址： | 荷兰*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于从衍生自费托法的烃原料制备残余基础油的方法，所述方法包含以下步骤：(a)提供衍生自费托法的烃原料；(b)对步骤(a)的所述烃原料进行加氢裂化/加氢异构化步骤，以获得至少部分异构化的产物；(c)将如步骤(b)中所获得的所述至少部分异构化的产物的至少一部分分离为一种或多种低沸点馏分和一种蜡油残余馏分；(d)对步骤(c)的所述蜡油残余馏分进行催化脱腊，以获得高度异构化的产物；(e)将步骤(d)的所述高度异构化的产物分离为一种或多种轻馏分和一种异构化残余馏分；(f)将步骤(e)的所述异构化残余馏分与稀释液混合，以获得稀释的异构化残余馏分；(g)将步骤(f)的所述稀释的异构化残余馏分冷却至0℃与‑60℃之间的温度；(i)在0℃与‑60℃之间的温度下对步骤(g)的混合物进行离心步骤，以将蜡从所述稀释的异构化残余馏分分离；(j)将稀释液从所述稀释的异构化残余馏分分离，以获得残余基础油。 | ||
| 搜索关键词： | 异构化 稀释 基础油 烃原料 高度异构 稀释液 蜡油 制备 加氢异构化 产物分离 催化脱腊 加氢裂化 离心步骤 混合物 低沸点 浊点 冷却 | ||
【主权项】：
1.一种用于从衍生自费托法的烃原料制备残余基础油的方法，所述方法包含以下步骤：(a)提供衍生自费托法的烃原料；(b)对步骤(a)的所述烃原料进行加氢裂化/加氢异构化步骤，以获得至少部分异构化的产物；(c)将如步骤(b)中所获得的所述至少部分异构化的产物中的至少一部分分离为一种或多种低沸点馏分和一种蜡油残余馏分；(d)对步骤(c)的所述蜡油残余馏分进行催化脱腊，以获得高度异构化的产物；(e)将步骤(d)的所述高度异构化的产物分离为一种或多种轻馏分和一种异构化残余馏分；(f)将步骤(e)的所述异构化残余馏分与稀释液混合，以获得稀释的异构化残余馏分；(g)将步骤(f)的所述稀释的异构化残余馏分冷却至0℃与‑60℃之间的温度；(i)在0℃与‑60℃之间的温度下对步骤(g)的混合物进行离心步骤，以将蜡从所述稀释的异构化残余馏分分离；(j)将所述稀释液从所述稀释的异构化残余馏分分离，以获得残余基础油。
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