[发明专利]用基片导引的重建光束工业产生体积反射全息图的设备和方法有效
| 申请号： | 201680075548.X | 申请日： | 2016-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN108475037B | 公开（公告）日： | 2021-09-14 |
| 发明（设计）人： | C·瑞维兹;R·哈根;T·法克;G·沃尔兹;F-K·布鲁德 | 申请（专利权）人： | 科思创德国股份有限公司 |
| 主分类号： | G03H1/20 | 分类号： | G03H1/20;G03H1/04;G02B1/111 |
| 代理公司： | 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 | 代理人： | 郑建晖;关丽丽 |
| 地址： | 德国勒*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及用基片导引的重建光束产生体积反射全息图的设备(200，300，400，600)，包括：至少一个透明的、平面的载体元件(210，310，410，610)，其包括第一平坦侧(210.1)和另一平坦侧(210.2)；至少一个主元件(206，306，406，606)，其能够布置在所述载体元件(210，310，410，610)的所述第一平坦侧(210.1)处；以及至少一个光学输入耦合元件(102，202，302，402，602)，其被配置为光学地耦合光束(214，216)，其中设置至少一个耦合部分(104，204，304，404，604)，其被配置为在所述输入耦合元件(102，202，302，402)和能够设置在所述载体元件(210，310，410)的所述另一平坦侧(210.2)上的至少一个全息记录介质(208，308，408)之间机械地建立光学接触，或被配置为在所述载体元件(610)的所述另一平坦侧和能够设置在所述光学输入耦合元件(602)的平坦侧(605)上的至少一个全息记录介质(608)之间机械地建立光学接触，其中至少所述耦合部分(104，204，304，404，604)由具有1000Pa和50MPa之间、优选地30,000Pa和30MPa之间的剪切模量的材料形成。 | ||
| 搜索关键词： | 用基片 导引 重建 光束 工业 产生 体积 反射 全息图 设备 方法 | ||
【主权项】：
1.用基片导引的重建光束产生体积反射全息图的设备(200，300，400，600)，包括：‑至少一个透明的、平面的载体元件(210，310，410，610)，包括第一平坦侧(210.1)和另一平坦侧(210.2)，‑至少一个主元件(206，306，406，606)，能够布置在所述载体元件(210，310，410，610)的所述第一平坦侧(210.1)处，以及‑至少一个光学输入耦合元件(102，202，302，402，602)，被配置为光学地耦合光束(214，216)，其特征在于：‑设置至少一个耦合部分(104，204，304，404，604)，所述至少一个耦合部分(104，204，304，404，604)被配置为在所述输入耦合元件(102，202，302，402)和能够设置在所述载体元件(210，310，410)的所述另一平坦侧(210.2)上的至少一个全息记录介质(208，308，408)之间机械地建立光学接触，或被配置为在所述载体元件(610)的所述另一平坦侧和能够设置在所述光学输入耦合元件(602)的平坦侧(605)上的至少一个全息记录介质(608)之间机械地建立光学接触，‑其中至少所述耦合部分(104，204，304，404，604)由具有1000Pa和50MPa之间、优选地30,000Pa和30MPa之间的剪切模量的材料形成。
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