[发明专利]共焦位移计有效
申请号: | 201680076178.1 | 申请日: | 2016-12-21 |
公开(公告)号: | CN108474646B | 公开(公告)日: | 2021-07-23 |
发明(设计)人: | 久我翔马 | 申请(专利权)人: | 株式会社基恩士 |
主分类号: | G01B11/00 | 分类号: | G01B11/00 |
代理公司: | 北京格罗巴尔知识产权代理事务所(普通合伙) 11406 | 代理人: | 孙德崇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | [问题]提供一种能够减小测量误差的共焦位移计。[解决方案]由光投射部(120)发射具有多个波长的光。透镜单元(220)用于使由光投射部(120)发射的光产生沿着光轴方向的色像差。此外,由透镜单元(220)使具有色像差的光会聚,并利用该光照射测量对象(S)。经由透镜单元(220)照射测量对象(S)所利用的光中的在聚焦的同时被测量对象(S)的表面反射的波长的光穿过多个针孔。利用运算处理部(150),基于与穿过多个针孔的多个光的各波长的平均强度相对应的平均信号的各波长的信号强度,来计算测量对象(S)的位移。 | ||
搜索关键词: | 位移 | ||
【主权项】:
1.一种共焦位移计,用于使用共焦光学系统来测量测量对象的位移,所述共焦位移计包括:光投射部,其配置为发射具有多个波长的光;光学构件,其被配置为使所述光投射部发射的光产生沿着光轴方向的色像差,使具有该色像差的光会聚,并且使该光照射在所述测量对象上;针孔构件,其包括多个针孔,所述多个针孔使得所述光学构件照射在所述测量对象上的光中的具有在聚焦于所述测量对象的表面的同时被反射的波长的光能够穿过;以及位移测量部,其被配置为基于如下的平均信号的各波长的信号强度来计算所述测量对象的位移,其中所述平均信号对应于与穿过所述多个针孔的多个光有关的各波长的强度的平均值。
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