[发明专利]聚乙烯膜及其制备方法在审
| 申请号： | 201680076274.6 | 申请日： | 2016-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN108431100A | 公开（公告）日： | 2018-08-21 |
| 发明（设计）人： | 李雯;王小川 | 申请（专利权）人： | 埃克森美孚化学专利公司 |
| 主分类号： | C08J5/18 | 分类号： | C08J5/18;B29C47/08;C08L23/06;C08L23/08 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 杨立芳 |
| 地址： | 美国得*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 提供了膜例如由聚乙烯聚合物制备的高茎膜，和这些膜的制备方法。此类膜优选具有以下性能中至少一个：(a)小于400MPa的MD 1％正割模量，(b)至少100g/mil的埃尔曼多夫撕裂MD，(c)至少200g/mil的落镖，(d)至少120mJ/μm的抗穿刺破裂能，(e)至少40％的150℃或至少30％的120℃TD收缩率；和(f)小于40％的雾度值。 | ||
| 搜索关键词： | 制备 聚乙烯聚合物 埃尔曼多夫 聚乙烯膜 正割模量 抗穿刺 收缩率 撕裂 高茎 雾度 优选 破裂 | ||
【主权项】：
1.包含聚乙烯聚合物的膜，所述聚乙烯聚合物具有大约0.1g/10min‑大约2.0g/10min的熔体指数(MI)(190℃/2.16kg)和大约0.905g/cm3‑大约0.920g/cm3的密度，和至少5cN的190℃熔体强度，其中所述膜具有以下项中至少一项：(a)小于400MPa的MD 1％正割模量，(b)至少100g/mi l的埃尔曼多夫撕裂MD，(c)至少200g/mil的落镖，(d)至少120mJ/μm的抗穿刺破裂能，(e)至少40％的150℃或至少30％的120℃TD收缩率，和(f)小于40％的雾度值。
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