[发明专利]光学膜、偏振膜、偏振膜的制造方法以及图像显示装置有效

专利信息
申请号: 201680076327.4 申请日: 2016-10-28
公开(公告)号: CN108431641B 公开(公告)日: 2020-10-09
发明(设计)人: 岩崎迅希;岩田行光;大石英司;本田和也 申请(专利权)人: 大日本印刷株式会社
主分类号: G02B1/14 分类号: G02B1/14;B32B7/023;B32B27/00;B32B27/06;B32B27/08;B32B27/30;B32B33/00;G02B1/111;G02B5/30;G02F1/1335
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 庞东成;王博
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种表面均匀且平坦的光学膜、具备该光学膜的偏振膜、以及图像显示装置。根据本发明的一个方式,提供光学膜10,其是具备透光性功能层11的、无基材的光学膜10,其中,透光性功能层11的表面11A形成光学膜10的表面10A,在透光性功能层11的表面11的1μm见方及5μm见方的区域内,算术平均粗糙度(Ra)分别为0.5nm以上1.5nm以下,轮廓最大高度(Rz)分别为4nm以上20nm以下,最大波峰高度(Rp)分别为2nm以上15nm以下。
搜索关键词: 光学 偏振 制造 方法 以及 图像 显示装置
【主权项】:
1.一种光学膜,其是具备透光性功能层的、无基材的光学膜,其中,所述透光性功能层的一个面形成所述光学膜的表面,在所述透光性功能层的所述一个面的1μm见方及5μm见方的区域内,算术平均粗糙度(Ra)分别为0.5nm以上1.5nm以下,轮廓最大高度(Rz)分别为4nm以上20nm以下,最大波峰高度(Rp)分别为2nm以上15nm以下。
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